[发明专利]一种基于矢量光场的径向偏振特性的双成像方法及系统

摘要

本发明利用偏振态径向变化的矢量光束可以产生两个焦点，且两个焦点间的间隔距离可由光学参数控制的这一特性，搭建了一套双像间距可调控的双成像系统。该发明的实验系统包括矢量光源，透镜,图像检测器。空间光调制器可调制带有图像信息的入射光，并配合后续光学系统对所述入射光进行调制，得到偏振态径向变化的矢量光束该光束透过透镜，再用图像捕获装置操作接收所述的空间调制光，并且检测空间调制光透过透镜后的不同部分的强度值，从而在其中形成调制光的图像。双聚焦成像是光学成像的一大重大突破，本发明从矢量光场的传播特性得到这一成果，并得到影响该双聚焦成像焦点间距的光学参数。应用前景可观。

主权项

一种基于矢量光场的径向偏振特性的双成像系统，其特征在于，该系统通过将带有图像信息的入射光用空间光调制器调制成偏振态径向变化的矢量光场，实现双成像。所述偏振态径向变化的矢量光场在z＝0平面上的表达式为：Ex＝exp(i2πnrl)，Ey＝exp(‑i2πnrl)；其中，EX为偏振态径向变化的矢量光场的x方向上的电场强度分量，Ey为偏振态径向变化的矢量光场的y方向上的电场强度分量，n为矢量光束偏振态沿径向变化的快慢的表示参数，r为矢量光束的光场半径，i为复数分量,l为拓扑荷。