[发明专利]一种基于矢量光场的径向偏振特性的双成像方法及系统

权利要求书

1.一种基于矢量光场的径向偏振特性的双成像系统，其特征在于，该系统通过将带有图像信息的入射光用空间光调制器调制成偏振态径向变化的矢量光场，实现双成像。所述偏振态径向变化的矢量光场在z＝0平面上的表达式为：E_x＝exp(i2πnr^l)，E_y＝exp(-i2πnr^l)；

其中，E_X为偏振态径向变化的矢量光场的x方向上的电场强度分量，E_y为偏振态径向变化的矢量光场的y方向上的电场强度分量，n为矢量光束偏振态沿径向变化的快慢的表示参数，r为矢量光束的光场半径，i为复数分量,l为拓扑荷。

2.一种基于矢量光场的径向偏振特性的双成像系统，其特征在于，包括偏振态径向变化的矢量光场发生器和透镜，偏振态径向变化的矢量光场发生器产生偏振态径向变化的矢量光场，将表示入射图像的入射光调制到矢量光场发生器中，经该发生器处理后获得带有图像信息的偏振态径向变化的矢量光场，然后通过透镜聚焦后，可在透镜的两个焦点处通过图像探测器分别获得图像。

3.根据权利要求2所述的系统，其特征在于，所述的系统所成的两个像之间的的距离Δd满足其中，l为拓扑荷，f是透镜焦距，λ是矢量光场的波长，r₀是矢量光场的初始半径。

4.根据权利要求2所述的系统，其特征在于，所述图像探测器包括CCD阵列，通过CCD阵列来执行捕获所述调制光，并且检测所述空间调制光的在不同距离的强度值和偏振态，以及形成的调制光图像。