[发明专利]用于沉积的掩模及其制造方法有效
| 申请号： | 201710564248.4 | 申请日： | 2017-07-12 |
| 公开（公告）号： | CN108118289B | 公开（公告）日： | 2020-07-28 |
| 发明（设计）人： | 俞明在;林玄泽;柳熙晟 | 申请（专利权）人： | 乐金显示有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C16/04;H01L51/56 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 李辉;刘久亮 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 用于沉积的掩模及其制造方法。在本发明的实施方式中公开了用于沉积的掩模及其制造方法。所公开的用于沉积掩模包括：沉积部分，其包括多个沉积图案；外周部分，其被构造成围绕所述沉积部分的外边缘；以及至少一个延伸部分，其设置在所述沉积部分与所述外周部分之间的边界处，其中，所述延伸部分的厚度小于所述外周部分的厚度。因此，可以增强用于沉积的掩模的外周部分与沉积部分之间的边界部分的强度。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 沉积 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种用于沉积的掩模，所述掩模包括：沉积部分，其包括多个沉积图案；外周部分，其被构造成包围所述沉积部分的外边缘；以及至少一个延伸部分，其位于所述沉积部分与所述外周部分之间的边界处；其中，所述延伸部分具有比所述外周部分的厚度小的厚度。
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