[发明专利]成膜装置有效
| 申请号： | 201710549221.8 | 申请日： | 2017-07-07 |
| 公开（公告）号： | CN107587105B | 公开（公告）日： | 2022-01-07 |
| 发明（设计）人： | 石井博 | 申请（专利权）人： | 佳能特机株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04 |
| 代理公司： | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人： | 朱龙 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种通过分别调整第一构件和第二构件的高度，即便是大型的掩模支承体也能够简单地确保掩模支承面的平坦度的掩模支承体、成膜装置及成膜方法。掩模支承体对成膜用的掩模(1)进行支承，其中，所述掩模支承体具有第一构件(3)、设置在所述第一构件(3)上的由多个构件构成的第二构件(4)、以及设置在所述第一构件(3)与所述第二构件(4)之间的高度调整用具(5)，通过所述高度调整用具(5)来调整构成所述第二构件(4)的多个构件间的高度，在构成所述第二构件(4)的多个构件的表面支承所述掩模(1)。 | ||
| 搜索关键词： | 装置 | ||
【主权项】：
一种掩模支承体，所述掩模支承体对成膜用的掩模进行支承，其特征在于，所述掩模支承体具有第一构件、设置在所述第一构件上的由多个构件构成的第二构件、以及设置在所述第一构件与所述第二构件之间的高度调整用具，通过所述高度调整用具来调整构成所述第二构件的多个构件间的高度，在构成所述第二构件的多个构件的表面支承所述掩模。
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