[发明专利]成膜装置

说明书

本发明提供一种通过分别调整第一构件和第二构件的高度，即便是大型的掩模支承体也能够简单地确保掩模支承面的平坦度的掩模支承体、成膜装置及成膜方法。掩模支承体对成膜用的掩模(1)进行支承，其中，所述掩模支承体具有第一构件(3)、设置在所述第一构件(3)上的由多个构件构成的第二构件(4)、以及设置在所述第一构件(3)与所述第二构件(4)之间的高度调整用具(5)，通过所述高度调整用具(5)来调整构成所述第二构件(4)的多个构件间的高度，在构成所述第二构件(4)的多个构件的表面支承所述掩模(1)。

技术领域

本发明涉及掩模支承体、成膜装置及成膜方法。

背景技术

在例如专利文献1公开的成膜装置中，通过将从成膜源放出的成膜材料经由被支承于掩模支承体的掩模而堆积在被支承于基板支承体的基板上来进行成膜，当掩模变形时，会引起基板与掩模的紧贴程度的下降，导致制品不良。

因此，对掩模进行支承的框状的掩模支承体的平坦度比较重要，故对掩模支承体实施使用了研磨机等的平坦化加工来确保平坦度。

【在先技术文献】

【专利文献】

【专利文献1】日本特开2012-33468号公报

发明内容

【发明要解决的课题】

然而，伴随着近年来的基板的大型化，掩模支承体也大型化，为了确保平坦度，机械加工要花费巨大的时间和费用。

本发明鉴于上述的现状而作出，其目的在于提供一种即便是大型的掩模支承体也能够简单地确保掩模支承面的平坦度的掩模支承体、成膜装置及成膜方法。

【用于解决课题的方案】

一种掩模支承体，所述掩模支承体对成膜用的掩模进行支承，其特征在于，所述掩模支承体具有第一构件、设置在所述第一构件上的由多个构件构成的第二构件、以及设置在所述第一构件与所述第二构件之间的高度调整用具，通过所述高度调整用具来调整构成所述第二构件的多个构件间的高度，在构成所述第二构件的多个构件的表面支承所述掩模。

【发明效果】

本发明由于如上所述构成，因此成为通过分别调整第一构件和第二构件的高度，即便是大型的掩模支承体也能够简单地确保掩模支承面的平坦度的掩模支承体、成膜装置及成膜方法。

附图说明

图1是本实施例的概略说明剖视图。

图2是本实施例的主要部分的分解说明立体图。

图3是另一例的概略说明剖视图。

【符号说明】

1 掩模

2 掩模支承体

3 第一构件

4 第二构件

5 高度调整用具

6 成膜源(蒸发源)

7 基板

8 基板支承体

9 真空槽

具体实施方式

基于附图，示出本发明的作用并简单地说明考虑为优选的本发明的实施方式。

第一构件3及第二构件4中的至少任一方由多个构件构成，由此即便整体为大型，也能够使构成第一构件3或第二构件4的各构件成为能够安装到普及品的小型加工装置的程度的尺寸，能够使它们在短时间内廉价且高精度地进行平坦化。