[发明专利]粉末压片X射线荧光光谱法测定金属硅中杂质的方法在审
| 申请号： | 201710514127.9 | 申请日： | 2017-06-29 |
| 公开（公告）号： | CN107228874A | 公开（公告）日： | 2017-10-03 |
| 发明（设计）人： | 杜亚明 | 申请（专利权）人： | 苏州浪声科学仪器有限公司 |
| 主分类号： | G01N23/223 | 分类号： | G01N23/223;G01N1/28;G01N1/38 |
| 代理公司： | 苏州知途知识产权代理事务所(普通合伙)32299 | 代理人： | 张锦波 |
| 地址： | 215100 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种粉末压片X射线荧光光谱法测定金属硅中杂质的方法，包括以下步骤1)取金属硅粉标准品和待测金属硅粉，再将所述金属硅粉标准品、待测金属硅粉分别先与H3BO3和助研剂混合搅拌均匀，得到混合物，再将所述混合物装于研磨罐中，然后于25～45t下保压35～40S压片，制成标准品样片和待测样片；2)再将所述标准品样片和待测样片通过X射线荧光光谱仪进行检测，并根据强度与含量确定线性关系，制作校准曲线，得到金属硅中杂质的含量。本发明的方法的检测灵敏度高，重复性强。 | ||
| 搜索关键词： | 粉末 压片 射线 荧光 光谱 测定 金属硅 杂质 方法 | ||
【主权项】：
一种粉末压片X射线荧光光谱法测定金属硅中杂质的方法，包括以下步骤：1)取金属硅粉标准品和待测金属硅粉，再将所述金属硅粉标准品、待测金属硅粉分别先与H3BO3和助研剂混合搅拌均匀，得到混合物，再将所述混合物装于研磨罐中，然后于25～45t下保压35～40S压片，制成标准品样片和待测样片；2)再将所述标准品样片和待测样片通过X射线荧光光谱仪进行检测，并根据强度与含量确定线性关系，制作校准曲线，得到金属硅中杂质的含量。
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