[发明专利]一种均一型多晶硅绒面的制备方法有效
申请号: | 201710510322.4 | 申请日: | 2017-06-28 |
公开(公告)号: | CN107342336B | 公开(公告)日: | 2018-12-07 |
发明(设计)人: | 黄彬彬;季美 | 申请(专利权)人: | 泉州泉一科技有限公司 |
主分类号: | H01L31/0236 | 分类号: | H01L31/0236;H01L31/18 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 362000 福建省泉*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | 本发明属于太阳能电池技术领域,具体涉及一种均一型多晶硅绒面的制备方法。本发明通过硅溶胶为负载体,将具有晶体结构的材料的物料包覆至材料表面,形成具有分子筛结构的薄膜,随后通过酸腐蚀改性对多硅晶体表面进行腐蚀制备,由于晶体结构的颗粒负载在材料表面后,酸腐蚀效率便会降低,使负载的材料表面无法接触酸腐蚀溶液,通过薄膜形成的软模板,对多硅晶材料表面进行刻蚀,最终制备具有均匀性结构的多硅晶绒面。 | ||
搜索关键词: | 一种 均一 多晶 硅绒面 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.一种均一型多晶硅绒面的制备方法,其特征在于具体制备步骤为:(1)按质量比1:5,将四丙基氢氧化铵与去离子水混合,得混合液,将正硅酸乙酯滴加至混合液中,在室温下静置得静置液,按质量比1:10,将静置液与去离子水混合得稀释液,在氮气气氛、0~5℃冰水浴条件下,将质量分数15%正钛酸丁酯异丙醇溶液滴加至稀释液中,保温反应后超声分散得分散液;(2)按质量比1:3:5,将去离子水、质量分数25%氢氟酸和65%硝酸溶液混合,搅拌得腐蚀液,按多晶硅片与丙酮质量比为1:10,取多晶硅片浸泡至丙酮溶液中,超声洗涤后,收集洗涤硅片并按洗涤硅片与无水乙醇质量比为1:10,将洗涤硅片置于无水乙醇中,超声处理,自然晾干得处理硅片;(3)按处理硅片与分散液质量比为1:10,将处理硅片浸泡至分散液中,保温晶化处理,冷却并洗涤,得包覆晶化膜改性硅片,按包覆晶化膜改性硅片与腐蚀液质量比为1:10,将包覆晶化膜改性硅片浸泡至腐蚀液中,静置腐蚀后,洗涤、干燥,制备得一种均一型多晶硅绒面。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
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