[发明专利]基板处理装置在审
| 申请号： | 201710498580.5 | 申请日： | 2017-06-27 |
| 公开（公告）号： | CN107579019A | 公开（公告）日： | 2018-01-12 |
| 发明（设计）人： | 菅长大辅;吉田昌弘 | 申请（专利权）人： | 住友精密工业株式会社 |
| 主分类号： | H01L21/67 | 分类号： | H01L21/67 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司11127 | 代理人： | 黄纶伟,韩香花 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种基板处理装置。该基板处理装置具备第2排出部，其比通过搬送部搬送的基板的背面更靠下方配置，且向排出药液的状态的基板的背面排出用于清洗基板的背面的清洗液。 | ||
| 搜索关键词： | 处理 装置 | ||
【主权项】：
一种基板处理装置，具备：搬送部，搬送基板；第1排出部，配置于所述搬送部的上方，并向通过所述搬送部搬送的所述基板的表面排出药液；及第2排出部，配置于比通过所述搬送部搬送的所述基板的背面更靠下方，并向排出所述药液的状态的所述基板的背面排出用于清洗所述基板的背面的清洗液。
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