[发明专利]一种奈韦拉平新晶型H及其制备方法在审
申请号: | 201710487022.9 | 申请日: | 2017-06-23 |
公开(公告)号: | CN107298681A | 公开(公告)日: | 2017-10-27 |
发明(设计)人: | 钱刚;张文灵 | 申请(专利权)人: | 浙江华海药业股份有限公司;浙江华海致诚药业有限公司 |
主分类号: | C07D471/14 | 分类号: | C07D471/14 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 317024 *** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本发明涉及奈韦拉平的一种新晶型H及其制备方法。该晶型是在约7.0°、9.2°、11.2°、13.1°、13.8°、18.3°、21.1°和24.2°±0.2°2θ的X射线粉末衍射所表征的结晶形态的奈韦拉平溶剂化物晶型,同时提供了该晶型的制备方法,包括将奈韦拉平加入二甘醇二甲醚或二甘醇二甲醚和其他溶剂的混合溶剂中,控温搅拌,冷却过滤,干燥。本发明中所指出的新晶型H具有稳定性高,流动性好等特点,同时该晶体形式的制备具有方法简单、除杂效果好、重现性好等特点,易于商业化大生产,具有很高的推广和应用价值。 | ||
搜索关键词: | 一种 拉平 新晶型 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种奈韦拉平的新晶型H,其特征在于:所述的奈韦拉平晶体为二甘醇二甲醚溶剂化物晶体,其使用Cu‑Ka辐射,以2θ角度表示的X‑射线粉末衍射在约7.0°、9.2°、11.2°、12.1°、13.1°、13.8°、15.2°、18.3°、21.1°和24.2°±0.2°有特征峰。
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