[发明专利]一种基于卤化铅的阻变存储器有效
申请号: | 201710472596.9 | 申请日: | 2017-06-21 |
公开(公告)号: | CN107293643B | 公开(公告)日: | 2018-08-17 |
发明(设计)人: | 王浩;何玉立;马国坤;蔡恒梅 | 申请(专利权)人: | 湖北大学 |
主分类号: | H01L45/00 | 分类号: | H01L45/00 |
代理公司: | 北京金智普华知识产权代理有限公司 11401 | 代理人: | 杨采良 |
地址: | 430062 湖北*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | 本发明提出了一种基于卤化铅的阻变存储器及其制备方法,其具体结构为三明治结构,FTO、ITO、ZTO作为基片和底电极,卤化铅薄膜作为阻变层,Pt、Au、W作为顶电极。本发明采用了一种新型的阻变功能材料卤化铅,它具有成分简单、易于成膜、在空气中化学性能稳定的特点。以卤化铅作为阻变层制备的阻变存储器单元,具有高低阻态比值窗口大、电学性能稳定、制备工艺简单、成本低廉、安全可靠,同时无环境污染的特点,它的存储窗口值达到了103以上。具有良好的循环耐受性,在多次重复擦写之后仍然具有良好的阻变性能。本发明具有较好的发展潜力和应用价值。 | ||
搜索关键词: | 一种 基于 卤化 存储器 | ||
【主权项】:
1.一种基于卤化铅的阻变存储器,从下至上依次为透明导电玻璃基片及底电极、阻变层和顶电极,其特征在于:所述透明导电玻璃的材料为FTO、或者为ITO、或者为ZTO,底电极为其导电薄膜,是阻变存储器的共电极;所述阻变层为卤化铅薄膜,其厚度为50~300nm,阻变层由单个或多个单元组成,每个单元一端连接顶电极,一端连接底电极;所述顶电极为Au、Pt薄膜或W薄膜,厚度为50~300nm,顶电极由多个顶电极单元组成,每个顶电极单元一端浮置,一端连接阻变层单元;所述卤化铅为PbI2、或者为PbBr2、或者为PbCl2中的任一种;上一层的单元尺寸不超过下一层的单元尺寸。
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