[发明专利]基板处理系统和温度控制方法

摘要

本发明提供一种能够实现载置台的小型化和构造的简化的基板处理系统和温度控制方法。基板处理系统具备基板处理装置和控制装置。基板处理装置具有：腔室；载置台，其设置在腔室内，用于载置被处理基板；以及加热器，其被嵌入到载置台的内部的与各个分割区域对应的位置，该各个分割区域是将载置台的上表面分割为多个区域而得到的。控制装置具有：保持部，其按每个分割区域保持表示加热器的电阻值与分割区域的温度之间的关系的表；测定部，其针对每个分割区域测定加热器的电阻值；以及控制部，其针对每个分割区域，参照表来估计与由测定部测定出的加热器的电阻值对应的分割区域的温度，控制向加热器供给的电力以使得所估计出的温度变为目标温度。

主权项

一种基板处理系统，具备基板处理装置以及对所述基板处理装置进行控制的控制装置，该基板处理系统的特征在于，所述基板处理装置具有：腔室；载置台，其设置在所述腔室内，用于载置被处理基板；以及加热器，其被嵌入到所述载置台的内部的与各个分割区域对应的位置，该各个分割区域是将所述载置台的上表面分割为多个区域而得到的，所述控制装置具有：保持部，其按每个所述分割区域保持表示被嵌入到所述载置台的内部的加热器的电阻值与所述分割区域的温度之间的关系的表；测定部，其针对每个所述分割区域测定被嵌入到所述载置台的内部的加热器的电阻值；以及控制部，其针对每个所述分割区域，参照所述表来估计与由所述测定部测定出的加热器的电阻值对应的所述分割区域的温度，对向所述加热器供给的电力进行控制，以使得所估计出的温度变为目标温度。