[发明专利]确定影响膜系工艺漂移及均匀性的主要膜层的分析方法

摘要

本发明是关于一种确定影响膜系工艺漂移及均匀性的主要膜层的分析方法，根据实际生产的膜系结构建立光学模型，得到每层薄膜厚度变化对产品性能的影响，形成对应于各膜层并体现产品性能变化趋势的矩阵；同时将产品性能的实际检测结果的变化状态用矩阵表示，并将两矩阵相乘，由计算结果确定影响产品工艺波动及均匀性的主要影响膜层，本发明采用矩阵方式分析各膜层对产品性能的影响，计算方法清晰简单便于识别，可以使分析过程计算程序化、达到自动监控分析。利用本发明可以快速确定影响产品工艺波动及均匀性的主要膜层，便于制定工艺调整制度，有利于连续生产中对工艺进行修正，保障生产的稳定、连续性。

主权项

1.一种确定影响膜系工艺漂移及均匀性的主要膜层的分析方法，其特征在于：其包括以下步骤:(1)在明确膜层顺序、膜层光学常数的条件下，利用导纳矩阵法建立膜系光学模型；(2)根据所述光学模型计算各膜层厚度预设范围内光谱数据，根据所述光谱数据确定各膜层厚度预设范围内的颜色数据L^*、a^*、b^*；(3)对于包含m层薄膜，建立各膜层颜色数据趋势矩阵，如下所示：每一层膜层形成该矩阵的行向量，每个行向量的元素分别对应于L^*、a^*、b^*数值随膜层厚度的变化趋势；(4)建立工艺漂移趋势矩阵，如下所示：该矩阵三行的元素分别对应于膜层玻面反射颜色L*、a*、b*数值相对于生产目标的玻面反射颜色L^*、a^*、b^*数值的变化趋势；(5)将产品颜色均匀性数据L^*、a^*、b^*分别在趋势变化拐点位置划分为n个不同的区域，建立颜色数据位置区域均匀性趋势矩阵，如下所示：该矩阵中每个区域形成三行一列的向量，三行的元素分别对应膜层颜色L^*、a^*、b^*数值随测量点的单调变化趋势；(6)工艺漂移分析：将所述各膜层颜色数据趋势矩阵与所述工艺漂移趋势矩阵相乘，得到工艺漂移结果矩阵；所述工艺漂移结果矩阵的行与膜层相对应，该结果矩阵中，与元素的绝对值最大的行相对应的膜层为影响工艺漂移的主要膜层；(7)膜系均匀性分析：将所述各膜层颜色数据趋势矩阵与所述颜色数据位置区域均匀性趋势矩阵相乘，得到膜系均匀性颜色数据结果矩阵，所述膜系均匀性颜色数据结果矩阵的行与膜层相对应，列与位置区域相对应，该结果矩阵的每列中，与元素的绝对值最大的行相对应的膜层为该区域内影响膜系均匀性变化的主要膜层。