[发明专利]确定影响膜系工艺漂移及均匀性的主要膜层的分析方法有效
| 申请号: | 201710458745.6 | 申请日: | 2017-06-16 |
| 公开(公告)号: | CN107101953B | 公开(公告)日: | 2019-06-04 |
| 发明(设计)人: | 余刚;汪洪 | 申请(专利权)人: | 中国建筑材料科学研究总院 |
| 主分类号: | G01N21/25 | 分类号: | G01N21/25 |
| 代理公司: | 北京鼎佳达知识产权代理事务所(普通合伙) 11348 | 代理人: | 王伟锋;刘铁生 |
| 地址: | 100024*** | 国省代码: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 确定 影响 工艺 漂移 均匀 主要 分析 方法 | ||
1.一种确定影响膜系工艺漂移及均匀性的主要膜层的分析方法,其特征在于:其包括以下步骤:
(1)在明确膜层顺序、膜层光学常数的条件下,利用导纳矩阵法建立膜系光学模型;
(2)根据所述光学模型计算各膜层厚度预设范围内光谱数据,根据所述光谱数据确定各膜层厚度预设范围内的颜色数据L*、a*、b*;
(3)对于包含m层薄膜,建立各膜层颜色数据趋势矩阵,如下所示:
每一层膜层形成该矩阵的行向量,每个行向量的元素分别对应于L*、a*、b*数值随膜层厚度的变化趋势;
(4)建立工艺漂移趋势矩阵,如下所示:
该矩阵三行的元素分别对应于膜层玻面反射颜色L*、a*、b*数值相对于生产目标的玻面反射颜色L*、a*、b*数值的变化趋势;
(5)将产品颜色均匀性数据L*、a*、b*分别在趋势变化拐点位置划分为n个不同的区域,建立颜色数据位置区域均匀性趋势矩阵,如下所示:
该矩阵中每个区域形成三行一列的向量,三行的元素分别对应膜层颜色L*、a*、b*数值随测量点的单调变化趋势;
(6)工艺漂移分析:将所述各膜层颜色数据趋势矩阵与所述工艺漂移趋势矩阵相乘,得到工艺漂移结果矩阵;所述工艺漂移结果矩阵的行与膜层相对应,该结果矩阵中,与元素的绝对值最大的行相对应的膜层为影响工艺漂移的主要膜层;
(7)膜系均匀性分析:将所述各膜层颜色数据趋势矩阵与所述颜色数据位置区域均匀性趋势矩阵相乘,得到膜系均匀性颜色数据结果矩阵,所述膜系均匀性颜色数据结果矩阵的行与膜层相对应,列与位置区域相对应,该结果矩阵的每列中,与元素的绝对值最大的行相对应的膜层为该区域内影响膜系均匀性变化的主要膜层。
2.根据权利要求1所述的确定影响膜系工艺漂移及均匀性的主要膜层的分析方法,其特征在于,所述颜色数据按照国际标准照明组织(CIE)规定的L*、a*、b*颜色空间表示。
3.根据权利要求1所述的确定影响膜系工艺漂移及均匀性的主要膜层的分析方法,其特征在于,所述的各膜层厚度预设范围为各膜层厚度±2%范围。
4.根据权利要求1所述的确定影响膜系工艺漂移及均匀性的主要膜层的分析方法,其特征在于,所述光谱数据包括透射光谱数据、膜面反射光谱数据和玻面反射光谱数据;所述颜色数据包括透射颜色数据、膜面反射颜色数据和玻面反射颜色数据。
5.根据权利要求1所述的确定影响膜系工艺漂移及均匀性的主要膜层的分析方法,其特征在于,在所述各膜层颜色数据趋势矩阵中,规定颜色数值随膜层厚度增加而单调递增的趋势为1,单调递减的趋势为-1,不单调为0;在所述工艺漂移趋势矩阵中,规定实测玻面反射颜色数值与生产目标的玻面反射颜色数值相比递增的趋势为1,递减的趋势为-1,相同或相似为0;在位置区域均匀性趋势矩阵中,规定在各区域内颜色数据L*、a*、b*随测量点单调递增的趋势为1、单调递减的趋势为-1。
6.根据权利要求1所述的确定影响膜系工艺漂移及均匀性的主要膜层的分析方法,其特征在于,在所述工艺漂移结果矩阵中,元素的值为正数表示是由于膜层厚度增加导致工艺漂移,元素的值为负数表示由于膜层厚度减小导致工艺漂移。
7.根据权利要求1所述的确定影响膜系工艺漂移及均匀性的主要膜层的分析方法,其特征在于,在所述膜系均匀性颜色数据结果矩阵中,元素的值为正数表示是由于膜层厚度增加导致膜系均匀性变化,元素的值为负数表示由于膜层厚度减小导致膜系均匀性变化。
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