[发明专利]高分辨率中阶梯光栅光谱仪二维偏差谱图分析与校正方法有效
| 申请号： | 201710442950.3 | 申请日： | 2017-06-13 |
| 公开（公告）号： | CN107101723B | 公开（公告）日： | 2018-05-01 |
| 发明（设计）人： | 李宏伟;曹海霞;何淼;赵英飞 | 申请（专利权）人： | 钢研纳克检测技术股份有限公司 |
| 主分类号： | G01J3/443 | 分类号： | G01J3/443 |
| 代理公司： | 北京中安信知识产权代理事务所(普通合伙)11248 | 代理人： | 李彬,张小娟 |
| 地址： | 100081 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明属于光谱技术领域，特别涉及的一种高分辨率中阶梯光栅光谱仪二维偏差谱图的分析与校正方法。该方法包括如下步骤步骤一，获得中阶梯光栅光谱仪的二维谱图；步骤二，对获得的二维谱图进行判读；步骤三，反演棱镜参数的偏差量和/或中阶梯光栅参数的偏差量；步骤四，对中阶梯光栅光谱仪的二维偏差谱图进行校正。本发明方法能够实现二维偏差谱图的定性分析及定量计算，同时能够实现二维偏差谱图的校正工作，对二维偏差谱图进行分析并校正后，能够充分发挥中阶梯光栅光谱仪高光谱分辨率、高灵敏度、低检出限等优势，同时该校正方法仅需对装调工装做微小改变，具有操作简单、易于实现等优点。 | ||
| 搜索关键词： | 高分辨率 阶梯 光栅 光谱仪 二维 偏差 分析 校正 方法 | ||
【主权项】：
一种高分辨率中阶梯光栅光谱仪二维偏差谱图的分析与校正方法，其特征在于：该方法包括如下步骤：步骤一，获得中阶梯光栅光谱仪的二维谱图；利用中阶梯光栅光谱仪分别采集线性光源和连续光源的谱图，得到中阶梯光栅光谱仪分立光谱和连续光谱的二维谱图；步骤二，对获得的二维谱图进行判读；分别判读分立光谱和连续光谱的二维谱图，确定二维谱图在棱镜色散方向和中阶梯光栅色散方向是否存在偏差；步骤三，反演棱镜参数的偏差量和/或中阶梯光栅参数的偏差量；步骤四，对中阶梯光栅光谱仪的二维偏差谱图进行校正；根据反演计算得到的棱镜参数的偏差量和/或中阶梯光栅参数的偏差量，确定棱镜和/或中阶梯光栅的实际工作状态，仿真并设计棱镜和/或中阶梯光栅的装调工装；根据工装对中阶梯光栅光谱仪重新装调，从而实现二维偏差谱图的校正。
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