[发明专利]一种高纯度ITO靶材的制备方法在审

专利信息
申请号: 201710441786.4 申请日: 2017-06-13
公开(公告)号: CN107188556A 公开(公告)日: 2017-09-22
发明(设计)人: 周新林;董程;刘洪浩 申请(专利权)人: 江苏比昂电子材料有限公司
主分类号: C04B35/457 分类号: C04B35/457
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 215137 江苏省苏州*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明涉及一种高纯度ITO靶材的制备方法,包括如下步骤S1将氧化锡、氧化铟混合后放入球磨机加水球磨成浆料;S2将步骤S1获得的浆料脱泡处理;S3对步骤S2获得的浆料成型,成型压力为0.15‑0.45MPa,成型时间为2h‑8h;S4将步骤S3成型的胚料放入烧结炉中烧结,炉温为常温,再将烧结炉内的炉温提升到500℃‑1000℃后保温5h‑10h,保温过后再将炉温提升到1550℃‑1650℃,再保温3h‑20h,保温过后将炉温降到500℃‑1000℃,再保温5h‑10h,保温过后将炉温降到常温。本发明上述方法能够生产出相对密度大于99.5%ITO靶材,能够生产出任意形状的ITO靶材。
搜索关键词: 一种 纯度 ito 制备 方法
【主权项】:
一种高纯度ITO靶材的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:S1:将按重量份数表示的8.5‑9.5份氧化锡和0.5‑1.5份氧化铟混合后放入球磨机球磨,球磨的同时加入纯水,充分球磨混合成浆料;S2:将步骤S1获得的浆料进行脱泡处理;S3:将步骤S2处理过后的浆料放入成型模具中成型,成型压力为0.15‑0.45MPa,成型时间为2h‑8h;S4:将步骤S3成型的胚料放入烧结炉中烧结,烧结时先将炉温提升到常温,将烧结炉内的炉温提升到500℃‑1000℃后保温5h‑10h,保温过后再将炉温提升到1550℃‑1650℃,再保温3h‑20h,保温过后将炉温降到500℃‑1000℃,再保温5h‑10h,保温过后将炉温降到常温。
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