[发明专利]非线性光学晶体的钝化有效
| 申请号: | 201710438881.9 | 申请日: | 2012-10-05 |
| 公开(公告)号: | CN107255897B | 公开(公告)日: | 2020-10-23 |
| 发明(设计)人: | 勇-霍·庄;弗拉基米尔·德里宾斯基 | 申请(专利权)人: | 科磊股份有限公司 |
| 主分类号: | G02F1/355 | 分类号: | G02F1/355;C30B33/12;G01N21/55;G01N21/95;H01S3/109 |
| 代理公司: | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人: | 张世俊 |
| 地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | 本发明是关于非线性光学晶体的钝化。本发明的一实施例包括暴露室,其经配置以含纳具有选定氢浓度的钝化气体,所述暴露室进一步经配置以含纳供暴露于所述室内的所述钝化气体的至少一个NLO晶体;钝化气体源,其流体连接到所述暴露室,所述钝化气体源经配置以将钝化气体供应到所述暴露室的内部部分;及衬底,其经配置以将所述NLO晶体固持于所述室内,所述衬底进一步经配置以使所述NLO晶体的温度维持处于或接近选定温度,所述选定温度低于所述NLO晶体的熔化温度。 | ||
| 搜索关键词: | 非线性 光学 晶体 钝化 | ||
【主权项】:
一种用于光学检验一或多个样本的系统,其包含:样本载台;激光系统,其经配置以用于照射安置于所述样本载台上的一或多个样本的表面的一部分,所述激光系统包含:至少一个经钝化且经退火的NLO晶体,所述NLO晶体经充分退火以建立低于选定水平的水含量,所述NLO晶体进一步经充分钝化以建立选定钝化水平;至少一个光源,其经配置以产生选定波长的光,所述光源进一步经配置以将光传输穿过所述NLO晶体;及晶体外壳单元,其经配置以装纳所述NLO晶体;检测器,其经配置以接收从所述样本的所述表面反射的照射的至少一部分;及计算系统,其通信耦合到所述检测器,所述计算系统经配置以获取关于由所述检测器接收的照射的至少一部分的信息,所述计算系统进一步经配置以利用关于由所述检测器接收的照射的至少一部分的信息来确定所述样本的至少一个缺陷的存在或不存在。
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