[发明专利]非线性光学晶体的钝化

权利要求书

1.一种用于光学检验一或多个样本的系统，其包含：

样本载台；

激光系统，其经配置以用于照射安置于所述样本载台上的一或多个样本的表面的一部分，所述激光系统包含：

至少一个经钝化且经退火的非线性光学晶体，所述非线性光学晶体经充分退火以建立低于选定水平的水含量，所述非线性光学晶体进一步经充分钝化以建立选定钝化水平；

至少一个光源，其经配置以产生选定波长的光，所述光源进一步经配置以将光传输穿过所述非线性光学晶体；及

晶体外壳单元，其经配置以装纳所述非线性光学晶体；

检测器，其经配置以接收从所述样本的所述表面反射的照射的至少一部分；及

计算系统，其通信耦合到所述检测器，所述计算系统经配置以获取关于由所述检测器接收的照射的至少一部分的信息，所述计算系统进一步经配置以利用关于由所述检测器接收的照射的至少一部分的信息来确定所述样本的至少一个缺陷的存在或不存在。

2.根据权利要求1所述的系统，其中所述激光系统的所述非线性光学晶体展现所述非线性光学晶体在IR、可见光及/或UV光谱中的一或多个吸收带，其中所述吸收带受所述非线性光学晶体的OH键的数目的改变影响，所述吸收带具有处于或高于选定水平的强度。

3.根据权利要求1所述的系统，其中所述激光系统是在193nm到266nm的范围内的一或多个波长下操作。

4.根据权利要求1所述的系统，其中所述激光系统包含具有至少一个二极管泵激固态DPSS源的至少一个激光器。

5.根据权利要求1所述的系统，其中所述激光系统包含具有至少一个光纤IR源的至少一个激光器。

6.根据权利要求1所述的系统，其中所述系统是针对暗场检验而配置。

7.根据权利要求1所述的系统，其中所述系统是针对明场检验而配置。

8.根据权利要求1所述的系统，其中所述样本包含未经图案化晶片。

9.根据权利要求1所述的系统，其中所述样本包含经图案化晶片。

10.根据权利要求1所述的系统，其中所述样本包含光罩或光掩模中的至少一者。

11.根据权利要求1所述的系统，其中所述系统进一步包括：

一或多个照射光学器件，其经配置以将照射从所述激光系统沿着照射路径引导到所述样本的所述表面。

12.根据权利要求1所述的系统，其中所述系统进一步包括：

一或多个收集光学器件，其经配置以将从所述样本的所述表面反射的照射沿着检测路径引导到所述检测器。