[发明专利]具有氧化铝层的铝制设备和其形成方法在审
| 申请号： | 201710435772.1 | 申请日： | 2017-06-09 |
| 公开（公告）号： | CN107502938A | 公开（公告）日： | 2017-12-22 |
| 发明（设计）人： | 邱如谦;陈炳宏;蒯光国 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | C25D11/24 | 分类号： | C25D11/24 |
| 代理公司： | 北京律盟知识产权代理有限责任公司11287 | 代理人： | 路勇 |
| 地址： | 中国台湾新竹市*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 本揭露涉及一种具有氧化铝层的铝制设备和其形成方法，在这种方法中，使用碱性溶液及酸性溶液中的至少一者来化学处理铝制体。对所述经化学处理的铝制体执行阳极氧化以形成氧化铝层。使用温度超过75℃的热水或水蒸汽来处理所述氧化铝层。经热水或水蒸汽处理之后的所述氧化铝层包含多个柱状晶粒，且所述柱状晶粒的平均宽度在从10nm到100nm的范围内。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 氧化铝 铝制 设备 形成 方法 | ||
【主权项】：
一种方法，其包括：使用碱性溶液及酸性溶液中的至少一者来化学处理铝制体；对所述经化学处理的铝制体执行阳极氧化以形成氧化铝层；及使用温度超过75℃的热水或水蒸汽来处理所述氧化铝层，其中经热水或水蒸汽处理之后的所述氧化铝层包含多个柱状晶粒，且所述柱状晶粒的平均宽度在从10nm到100nm的范围内。
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