[发明专利]具有高真空的场发射X射线管在审

专利信息
申请号: 201710406634.0 申请日: 2017-06-02
公开(公告)号: CN107195517A 公开(公告)日: 2017-09-22
发明(设计)人: 黄世耀;林及人 申请(专利权)人: 重庆涌阳光电有限公司
主分类号: H01J35/20 分类号: H01J35/20
代理公司: 重庆乐泰知识产权代理事务所(普通合伙)50221 代理人: 刘佳
地址: 401329 重*** 国省代码: 重庆;85
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摘要: 发明公开了一种具有高真空的场发射X射线管。所述具有高真空的场发射X射线管包括真空罩体和气体吸附薄膜,所述真空罩体内的一端设有阴极场发射组件,所述真空罩体的另一端设有阳极靶,所述阴极场发射组件内设有用于场发射的碳纳米材料,所述碳纳米材料与所述阴极场发射组件电性连接,所述气体吸附薄膜设在阴极场发射组件表面和/或阳极靶表面,所述阴极场发射组件和阳极靶均设有针脚,所述阴极场发射组件和阳极靶的针脚部分位于真空罩体外。本发明具有高真空的场发射X射线管使用寿命长。
搜索关键词: 具有 真空 发射 射线
【主权项】:
一种具有高真空的场发射X射线管,其特征在于:包括真空罩体和气体吸附薄膜,所述真空罩体内的一端设有阴极场发射组件,所述真空罩体的另一端设有阳极靶,所述阴极场发射组件内设有用于场发射的碳纳米材料,所述碳纳米材料与所述阴极场发射组件电性连接,所述气体吸附薄膜设在阴极场发射组件表面和/或阳极靶表面,所述阴极场发射组件和阳极靶均设有针脚,所述阴极场发射组件和阳极靶的针脚部分位于真空罩体外。
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