[发明专利]具有高真空的场发射X射线管在审
申请号: | 201710406634.0 | 申请日: | 2017-06-02 |
公开(公告)号: | CN107195517A | 公开(公告)日: | 2017-09-22 |
发明(设计)人: | 黄世耀;林及人 | 申请(专利权)人: | 重庆涌阳光电有限公司 |
主分类号: | H01J35/20 | 分类号: | H01J35/20 |
代理公司: | 重庆乐泰知识产权代理事务所(普通合伙)50221 | 代理人: | 刘佳 |
地址: | 401329 重*** | 国省代码: | 重庆;85 |
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摘要: | 本发明公开了一种具有高真空的场发射X射线管。所述具有高真空的场发射X射线管包括真空罩体和气体吸附薄膜,所述真空罩体内的一端设有阴极场发射组件,所述真空罩体的另一端设有阳极靶,所述阴极场发射组件内设有用于场发射的碳纳米材料,所述碳纳米材料与所述阴极场发射组件电性连接,所述气体吸附薄膜设在阴极场发射组件表面和/或阳极靶表面,所述阴极场发射组件和阳极靶均设有针脚,所述阴极场发射组件和阳极靶的针脚部分位于真空罩体外。本发明具有高真空的场发射X射线管使用寿命长。 | ||
搜索关键词: | 具有 真空 发射 射线 | ||
【主权项】:
一种具有高真空的场发射X射线管,其特征在于:包括真空罩体和气体吸附薄膜,所述真空罩体内的一端设有阴极场发射组件,所述真空罩体的另一端设有阳极靶,所述阴极场发射组件内设有用于场发射的碳纳米材料,所述碳纳米材料与所述阴极场发射组件电性连接,所述气体吸附薄膜设在阴极场发射组件表面和/或阳极靶表面,所述阴极场发射组件和阳极靶均设有针脚,所述阴极场发射组件和阳极靶的针脚部分位于真空罩体外。
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