[发明专利]光刻机的照明系统有效
| 申请号： | 201710374065.6 | 申请日： | 2017-05-24 |
| 公开（公告）号： | CN108931888B | 公开（公告）日： | 2020-12-18 |
| 发明（设计）人： | 刘玄 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（上海）有限公司;中芯国际集成电路制造（北京）有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市磐华律师事务所 11336 | 代理人： | 高伟;刘爱平 |
| 地址： | 201203 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明实施例提供了一种光刻机的照明系统，包括：第一光源，其所产生的光束通过微反射镜阵列之后变为第一光束；第二光源，其所产生的第二光束与所述第一光束进行耦合，以实现光照增强。由此可见，本发明实施例的照明系统中，第二光源产生的第二光束能够耦合至第一光源产生的第一光束中，从而能够实现光照增强，可以实现最佳光源，进一步地可以基于该最佳光源获得最大的工艺窗口。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 照明 系统 | ||
【主权项】：
1.一种光刻机的照明系统，其特征在于，包括：第一光源，其所产生的光束通过微反射镜阵列之后变为第一光束；第二光源，其所产生的第二光束与所述第一光束进行耦合，以实现光照增强。
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