[发明专利]光刻机的照明系统

说明书

本发明实施例提供了一种光刻机的照明系统，包括：第一光源，其所产生的光束通过微反射镜阵列之后变为第一光束；第二光源，其所产生的第二光束与所述第一光束进行耦合，以实现光照增强。由此可见，本发明实施例的照明系统中，第二光源产生的第二光束能够耦合至第一光源产生的第一光束中，从而能够实现光照增强，可以实现最佳光源，进一步地可以基于该最佳光源获得最大的工艺窗口。

技术领域

本发明涉及光刻机领域，更具体地涉及一种光刻机的照明系统。

背景技术

现有的浸没式光刻机的照明系统(如图1所示)中，其曝光光源的强度分布(SourceMap)由反射阵列来实现。通过调整照明系统中微反射镜阵列的每一个镜片的旋转角度，来实现对于反射光光强分布的离散化控制。这样，基于该光刻机的照明系统，能够实现各种照明条件，如图2所示。

但是在实际应用中，由于镜片受到机械排布的影响，对应的镜片的旋转角度受限，因此当相邻区域的设定强度变化过大时，无法实现由光源-掩膜协同优化(Source-MaskCo-Optimization，SMO)软件计算出的最佳光源。具体地，由SMO软件计算出的某照明条件与现有的照明系统所能实现的照明条件两者之差过大。由此可见，现有的照明系统无法实现最佳光源，而由于无法实现最佳光源，对后续的光刻的工艺窗口也产生了显著的负面影响。

发明内容

考虑到上述问题而提出了本发明。本发明提供了一种光刻机的照明系统，能够实现最佳光源，从而能够获得最大的工艺窗口。

根据本发明，提供了一种光刻机的照明系统，包括：

第一光源，其所产生的光束通过微反射镜阵列之后变为第一光束；

第二光源，其所产生的第二光束与所述第一光束进行耦合，以实现光照增强。

示例性地，还包括合束器，所述合束器包括共焦放置的凹面镜和凸面镜，以用于所述耦合。

示例性地，所述第一光束和所述第二光束平行地入射到所述凹面镜上，经所述凸面镜和所述凹面镜的多次反射后产生重合的输出光束，作为耦合之后的光束。

示例性地，所述凹面镜的曲率半径表示为R₁，所述凸面镜的曲率半径表示为R₂，其中，R₁与R₂的比值是预设的，以使得入射光束经所述合束器后的缩小倍率大于或等于1.5且小于或等于2。

示例性地，还包括：阵列式光阑，置于所述第二光源与所述合束器之间，用于控制所述第二光束进入所述合束器中的光束区域。

示例性地，所述阵列式光阑包括多个子光阑，通过调节所述多个子光阑的打开或闭合状态，控制所述第二光束进入所述合束器中的光束区域。

示例性地，所述阵列式光阑的朝向所述第二光束的表面覆有吸收涂层。

示例性地，还包括衰减片阵列，用于对耦合之后的光束进行衰减。

示例性地，所述衰减片阵列包括多组衰减片，所述多组衰减片中的不同组衰减片具有相同或不同的衰减率。

本发明实施例的照明系统中，第二光源产生的第二光束能够耦合至第一光源产生的第一光束中，从而能够实现光照增强，可以实现最佳光源，进一步地可以基于该最佳光源获得最大的工艺窗口。

附图说明

通过结合附图对本发明实施例进行更详细的描述，本发明的上述以及其它目的、特征和优势将变得更加明显。附图用来提供对本发明实施例的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与本发明实施例一起用于解释本发明，并不构成对本发明的限制。在附图中，相同的参考标号通常代表相同部件或步骤。

图1是现有的浸没式光刻机的照明系统的一个示意图；