[发明专利]光刻机的照明系统

权利要求书

1.一种光刻机的照明系统，其特征在于，包括：

第一光源，其所产生的光束通过微反射镜阵列之后变为第一光束；

第二光源，其所产生的第二光束与所述第一光束进行耦合，以实现光照增强；

合束器，所述合束器包括共焦放置的凹面镜和凸面镜，以用于所述耦合；

阵列式光阑，置于所述第二光源与所述合束器之间，用于控制所述第二光束进入所述合束器中的光束区域。

2.如权利要求1所述的照明系统，其特征在于，

所述第一光束和所述第二光束平行地入射到所述凹面镜上，经所述凸面镜和所述凹面镜的多次反射后产生重合的输出光束，作为耦合之后的光束。

3.如权利要求1所述的照明系统，其特征在于，所述凹面镜的曲率半径表示为R₁，所述凸面镜的曲率半径表示为R₂，其中，R₁与R₂的比值是预设的，以使得入射光束经所述合束器后的缩小倍率大于或等于1.5且小于或等于2。

4.如权利要求1所述的照明系统，其特征在于，所述阵列式光阑包括多个子光阑，通过调节所述多个子光阑的打开或闭合状态，控制所述第二光束进入所述合束器中的光束区域。

5.如权利要求1所述的照明系统，其特征在于，所述阵列式光阑的朝向所述第二光束的表面覆有吸收涂层。

6.如权利要求1至5中任一项所述的照明系统，其特征在于，还包括衰减片阵列，用于对耦合之后的光束进行衰减。

7.如权利要求6所述的照明系统，其特征在于，所述衰减片阵列包括多组衰减片，所述多组衰减片中的不同组衰减片具有相同或不同的衰减率。