[发明专利]一种选择性红外辐射器有效
申请号: | 201710370878.8 | 申请日: | 2017-05-23 |
公开(公告)号: | CN107104162B | 公开(公告)日: | 2019-01-25 |
发明(设计)人: | 谭永胜;李秀东;方泽波;刘士彦 | 申请(专利权)人: | 绍兴文理学院 |
主分类号: | H01L31/054 | 分类号: | H01L31/054;H01L31/055 |
代理公司: | 北京华仲龙腾专利代理事务所(普通合伙) 11548 | 代理人: | 李静 |
地址: | 312000 浙江*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本发明提供了一种选择性红外辐射器,包括基体材料硅、沉积在基体材料上的氧化铒厚膜以及沉积在氧化铒厚膜上的一维Si/Er2O3光子晶体。其中,一维Si/Er2O3光子晶体由交替沉积在氧化铒厚膜上的硅薄膜和氧化铒薄膜两种介质材料。本发明提供的选择性红外辐射器可获得极窄的选择性红外辐射光谱,从而大幅提高TPV系统的光电转换效率。 | ||
搜索关键词: | 一种 选择性 红外 辐射器 | ||
【主权项】:
1.一种选择性红外辐射器,其特征在于,它包括基体材料硅(Si)、沉积在基体材料上的氧化铒(Er2O3)厚膜以及沉积在氧化铒厚膜上的一维Si/Er2O3光子晶体;一维Si/Er2O3光子晶体由交替沉积在氧化铒厚膜上的硅薄膜和氧化铒薄膜两种介质材料组成;沉积在基体材料上的氧化铒厚膜厚度为1微米~100微米;硅薄膜与氧化铒薄膜交替沉积后采用密封压力反应1~4h,密封压力的压力为3MPa~10MPa,温度为100~120℃;密封压力反应后硅薄膜和氧化铒薄膜材料采用无水乙醇与无水甲醇清洗,所述清洗方式采用曝气微沸反应,无水乙醇微沸反应1~2h,无水甲醇清洗2~3h,然后60~80℃烘干,所述微沸反应温度为80~90℃,所述曝气气体采用氮气,流速为10~15mL/min。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
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H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的