[发明专利]一种含羟基修饰的N;N-二甲氨基的阳离子聚合物及其制备方法和应用有效

专利信息
申请号: 201710367726.2 申请日: 2017-05-23
公开(公告)号: CN107298729B 公开(公告)日: 2019-11-22
发明(设计)人: 董岸杰;周俊辉;邓联东;张建华 申请(专利权)人: 天津大学
主分类号: C08F8/32 分类号: C08F8/32;C08F8/34;C08F293/00;C08F220/32;A61K47/32;A61K47/58
代理公司: 12201 天津市北洋有限责任专利代理事务所 代理人: 王丽<国际申请>=<国际公布>=<进入国
地址: 300072 天*** 国省代码: 天津;12
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摘要: 发明涉及一种含羟基修饰的N,N‑二甲氨基的阳离子聚合物及其制备方法和应用,其羟基修饰的N,N‑二甲氨基是N,N,N‑二甲基乙基‑2‑羟基‑丙基硫醚,阳离子聚合物为均聚物或共聚物;所述的阳离子聚合物的相对分子质量为5000‑40000。所述的阳离子聚合物为聚合物为两亲性共聚物时,其在水溶液中自组装形成平均粒径小于200nm的聚阳离子纳米粒,表面羟基的存在可以明显提高该聚阳离子的生物相容性,细胞相容性较好且没有溶血现象。所形成的纳米粒负载DNA、siRNA或多肽、蛋白类生物药物,内核可以负载疏水性的化学药物,用于药物递送。作为siRNA载体,具有较好的应用前景。
搜索关键词: 一种 羟基 修饰 二甲 氨基 阳离子 聚合物 及其 制备 方法 应用
【主权项】:
1.一种含羟基修饰的N,N-二甲氨基的阳离子聚合物,其特征是羟基修饰的N,N-二甲氨基是N,N,N-二甲基乙基-2-羟基-丙基硫醚,以下简称HDMA,HDMA的结构如式(1)所示:/n /n式(1)中X为键接HDMA与大分子主链的基团,选自酯基、醚键、酰胺;阳离子聚合物为均聚物或共聚物;所述的阳离子聚合物的相对分子质量为5000-40000;所述的共聚物至少含有键接HDMA的结构单元和疏水性结构单元,其中疏水性结构单元的总质量占阳离子聚合物质量的10%~60%,键接HDMA的结构单元的总质量占阳离子聚合物质量的10%~90%。/n
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