[发明专利]一种含羟基修饰的N;N-二甲氨基的阳离子聚合物及其制备方法和应用有效

专利信息
申请号: 201710367726.2 申请日: 2017-05-23
公开(公告)号: CN107298729B 公开(公告)日: 2019-11-22
发明(设计)人: 董岸杰;周俊辉;邓联东;张建华 申请(专利权)人: 天津大学
主分类号: C08F8/32 分类号: C08F8/32;C08F8/34;C08F293/00;C08F220/32;A61K47/32;A61K47/58
代理公司: 12201 天津市北洋有限责任专利代理事务所 代理人: 王丽<国际申请>=<国际公布>=<进入国
地址: 300072 天*** 国省代码: 天津;12
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摘要:
搜索关键词: 一种 羟基 修饰 二甲 氨基 阳离子 聚合物 及其 制备 方法 应用
【权利要求书】:

1.一种含羟基修饰的N,N-二甲氨基的阳离子聚合物,其特征是羟基修饰的N,N-二甲氨基是N,N,N-二甲基乙基-2-羟基-丙基硫醚,以下简称HDMA,HDMA的结构如式(1)所示:

式(1)中X为键接HDMA与大分子主链的基团,选自酯基、醚键、酰胺;阳离子聚合物为均聚物或共聚物;所述的阳离子聚合物的相对分子质量为5000-40000;所述的共聚物至少含有键接HDMA的结构单元和疏水性结构单元,其中疏水性结构单元的总质量占阳离子聚合物质量的10%~60%,键接HDMA的结构单元的总质量占阳离子聚合物质量的10%~90%。

2.如权利要求1所述的阳离子聚合物,其特征是阳离子聚合物为均聚物,即其中键接HDMA的结构单元的总质量占阳离子聚合物质量的100%。

3.如权利要求1所述的阳离子聚合物,其特征是所述的共聚物为键接HDMA的结构单元的均聚物PHDMA与非离子亲水性聚合物B和疏水段R组成的两亲性三嵌段共聚物,其中,PHDMA嵌段的相对分子质量为2000~10000,非离子亲水性聚合物B的相对分子质量为2000-10000,疏水段R的相对分子质量为2000~20000;PHDMA嵌段在三嵌段共聚物中的质量百分含量为10%~70%。

4.如权利要求3所述的阳离子聚合物,疏水段R是酯类单体或烯类单体的均聚物或共聚物,酯类单体选自己内酯、乙交酯、丙交酯、4-(乙二醇缩酮)-己内酯,烯类单体选自甲基丙烯酸-2-(3,5-二恶烷-4-(2,4,6-三甲氧基苯))丙酯、甲基丙烯酸(二异丙基氨基)乙酯。

5.如权利要求4所述的阳离子聚合物,其特征是所述的非离子亲水性聚合物B为聚乙二醇单甲醚。

6.权利要求5所述的阳离子聚合物的制备方法,其特征是,以烯类聚合物为疏水段:将聚乙二醇单甲醚溶解于二氯甲烷,加入小分子链转移剂S-1-十二烷基-S′-(α,α″-二甲基-α″-乙酸)三硫代碳酸酯,随后加入二环己基碳二亚胺和4-二甲氨基吡啶,室温条件下反应后浓缩,在冰乙醚中沉淀,抽滤,真空干燥,得到大分子引发剂;在反应器中加入大分子引发剂,用二甲基亚砜溶解后,加入疏水性的烯类单体,30-80℃下反应24小时后,加入甲基丙烯酸缩水甘油醚,30-80℃下反应24小时,浓缩,在冰乙醚中沉淀,抽滤,真空干燥,得到含环氧乙烷侧基的嵌段共聚物;将所得共聚物溶于四氢呋喃中,加入N,N-二甲氨基乙硫醇,室温反应过夜;浓缩,在冰乙醚中沉淀,抽滤,真空干燥,得到以烯类聚合物为疏水段的三嵌段共聚物。

7.权利要求5所述的阳离子聚合物的制备方法,其特征是,以可降解聚酯为疏水段:将聚乙二醇单甲醚加入反应器中,然后在反应器中加入酯类单体,加入催化剂辛酸亚锡,100-130℃下反应过夜,将产物用二氯甲烷溶解,在冰乙醚中沉淀,抽滤,真空干燥得到MPEG-R聚合物;将MPEG-R溶解于二氯甲烷,加入小分子链转移剂S-1-十二烷基-S′-(α,α″-二甲基-α″-乙酸)三硫代碳酸酯,随后加入二环己基碳二亚胺和4-二甲氨基吡啶,室温条件下反应过夜,浓缩,在冰乙醚中沉淀,抽滤,真空干燥,得到大分子引发剂;将大分子引发剂和甲基丙烯酸缩水甘油醚加入反应器中,然后加入DMSO,30℃下反应24小时后浓缩,在冰乙醚中沉淀,抽滤,真空干燥,得到含环氧乙烷侧基的嵌段共聚物;将所得嵌段共聚物溶于四氢呋喃中,加入N,N-二甲氨基乙硫醇,室温反应过夜后浓缩,在冰乙醚中沉淀,抽滤,真空干燥,得到以可降解聚酯为疏水段的三嵌段共聚物。

8.权利要求1所述的含羟基修饰的N,N-二甲氨基的阳离子聚合物在制备负载DNA、siRNA或多肽、蛋白类生物药物的载体中的应用。

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