[发明专利]复合曲面陷光结构及其制备方法有效
| 申请号： | 201710366413.5 | 申请日： | 2017-05-23 |
| 公开（公告）号： | CN107134499B | 公开（公告）日： | 2020-01-31 |
| 发明（设计）人： | 郭小伟;徐文龙;王大帅;李绍荣 | 申请（专利权）人： | 电子科技大学 |
| 主分类号： | H01L31/0216 | 分类号： | H01L31/0216;H01L31/068;H01L31/18 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 611731 四川省成*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种提升薄膜硅太阳能电池效率的复合曲面陷光结构，整体为周期单元陷光结构组成，每个单元由复合曲面构成，在单元陷光结构之上覆盖着一层透明钝化膜。除最外侧的曲面以外，每个曲面与其最相近的8个同样的曲面之间又间隔着3组曲面（x方向的两个为一组，y方向的两个为一组，倾斜方向的4个为一组），这三组曲面互相不同，任意两个相邻曲面之间在各自的最低点平顺地互相连接，以避免尖锐面导致的对某个角度的强反射。如图，标记为1的曲面是一组，标记为2的曲面是一组，标记为3的曲面是一组，标记为4的曲面是一组，各组曲面都有同样的周期而又复合在一起。本发明提出的这种结构易于加工，而且具有角谱范围大和光谱吸收高的特点，有利于提高薄膜硅电池的吸光效率。 | ||
| 搜索关键词： | 复合 曲面 结构 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种能提升薄膜硅电池效率的复合曲面陷光结构，其特征在于，该结构具有：/n抗反射结构体，表面有周期性的复合曲面；以及透明钝化膜，形成在上述复合曲面上；/n除最外侧的曲面以外，每个曲面与其最相近的8个同样的曲面之间又间隔着3组曲面，这三组曲面互相不同，其中x方向的两个曲面为一组，与之垂直的y方向的两个曲面为一组，倾斜方向的4个曲面为一组，任意两个相邻曲面之间在各自的最低点平顺地互相连接。/n
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射，或微粒辐射敏感的，并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的，或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件；专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的，例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的，一个或多个电光源，如场致发光光源在结构上相连的，并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
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