[发明专利]等离子体处理装置有效
| 申请号： | 201710333265.7 | 申请日： | 2017-05-12 |
| 公开（公告）号： | CN107371315B | 公开（公告）日： | 2020-01-14 |
| 发明（设计）人： | 山泽阳平 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | H05H1/46 | 分类号： | H05H1/46;H01J37/32 |
| 代理公司： | 11322 北京尚诚知识产权代理有限公司 | 代理人： | 龙淳;杨艺 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的技术课题是提高对等离子体处理装置的多个腔室用的电极供电的效率。一实施方式的等离子体处理装置提供多个腔室。多个上部电极分别设置在多个腔室内的空间之上。多个下部电极分别设置在多个腔室内的空间之下。变压器具有一次线圈和多个二次线圈。一次线圈与高频电源连接。多个二次线圈的一端与多个上部电极分别连接。多个二次线圈的另一端与多个下部电极分别连接。多个二次线圈能够与一次线圈同轴地配置。多个二次线圈各自的自感比一次线圈的自感小。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体 处理 装置 | ||
【主权项】：
1.一种电容耦合型的等离子体处理装置，其特征在于，包括：/n提供相互分离的多个腔室且接地的至少一个腔室主体；/n多个上部电极；/n多个下部电极；/n高频电源；/n具有与所述高频电源电连接的一次线圈和多个二次线圈的变压器；/n多个第1电容器；和/n多个第2电容器，/n所述多个上部电极和所述多个下部电极，以在所述多个腔室的每一个腔室内的空间之上设置一个所述上部电极且在所述空间之下设置一个所述下部电极的方式设置，/n各所述第1电容器连接在所述多个二次线圈中的一个所述二次线圈的一端与所述多个上部电极中的一个所述上部电极之间，/n各所述第2电容器连接在所述多个二次线圈中的一个所述二次线圈的另一端与所述多个下部电极中的一个所述下部电极之间，/n所述一次线圈绕中心轴线延伸，/n所述多个二次线圈能够与所述一次线圈同轴地配置，/n所述多个二次线圈各自的自感比所述一次线圈的自感小，/n所述多个二次线圈各自的绕组与所述一次线圈的绕组交替卷绕。/n
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