[发明专利]一种“金字塔”样三维细胞聚集培养芯片及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201710291184.5 申请日: 2017-04-28
公开(公告)号: CN108795752A 公开(公告)日: 2018-11-13
发明(设计)人: 秦建华;魏文博;刘海涛;王亚清 申请(专利权)人: 中国科学院大连化学物理研究所
主分类号: C12M3/00 分类号: C12M3/00;G03F7/00
代理公司: 沈阳晨创科技专利代理有限责任公司 21001 代理人: 郑虹
地址: 116023 *** 国省代码: 辽宁;21
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供了一种“金字塔”样三维细胞聚集培养芯片及其制备方法。该方法利用软光刻的方法制备具有“金字塔”样的阵列模板,再用聚二甲基硅氧烷(PDMS)制备成具有反金字塔结构的凹陷阵列芯片。在接种细胞后,由于芯片内凹陷具有倾斜的侧壁,迫使细胞聚集在其底部,进而聚集成三维细胞团。本发明的芯片与一般的垂直曝光所得到的垂直侧边的凹陷阵列相比,侧边倾斜的凹陷阵列可以对其中存在的细胞产生来自底边和四个侧壁上挤压的力,使其中的细胞更易聚集成球,提高了实验的效率。
搜索关键词: 芯片 制备 凹陷阵列 细胞聚集 金字塔 三维 侧壁 聚二甲基硅氧烷 金字塔结构 垂直侧边 接种细胞 细胞产生 阵列模板 内凹陷 软光刻 上挤压 细胞团 侧边 成球 垂直 细胞 曝光
【主权项】:
1.一种“金字塔”样三维细胞聚集培养芯片,其特征在于:该芯片为凹陷阵列结构的芯片,所述的凹陷为反金字塔结构,该芯片利用倾斜曝光的软光刻技术制备出具有“金字塔”样结构的模板,再利用该模板制备出聚二甲基硅氧烷芯片,在利用软光刻进行紫外曝光的时候,将曝光平台改为可以调节倾斜角度以及可以自由旋转的平台。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院大连化学物理研究所,未经中国科学院大连化学物理研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201710291184.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top