[发明专利]图像形成装置以及解除方法在审

专利信息
申请号: 201710274481.9 申请日: 2017-04-24
公开(公告)号: CN107390488A 公开(公告)日: 2017-11-24
发明(设计)人: 望月将行;寺田刚志 申请(专利权)人: 京瓷办公信息系统株式会社
主分类号: G03G15/08 分类号: G03G15/08;G03G21/16
代理公司: 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司11258 代理人: 张永玉
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明提供一种图像形成装置以及解除方法。本发明的图像形成装置具备安装部、锁定机构、图像形成部、第一检测处理部、第二检测处理部、第一解除处理部以及第二解除处理部。安装部用于安装显影剂容纳部。锁定机构限制显影剂容纳部的拆装。图像形成部使用显影剂形成图像。第一检测处理部检测第一状态。第二检测处理部检测第二状态。第一解除处理部在检测出第一状态的情况下,使锁定机构解除显影剂容纳部的拆装限制。第二解除处理部在检测出第二状态且预先规定的解除条件满足的情况下,使锁定机构解除显影剂容纳部的拆装限制。根据本发明,能够降低更换时的显影剂容纳部内的显影剂的剩余量,并且能够在检测出显影剂耗尽之前更换显影剂容纳部。
搜索关键词: 图像 形成 装置 以及 解除 方法
【主权项】:
一种图像形成装置,包括:安装部,所述安装部用于安装容纳显影剂的显影剂容纳部;锁定机构,所述锁定机构能够限制安装于所述安装部的所述显影剂容纳部的拆装;以及图像形成部,所述图像形成部使用所述显影剂形成图像,所述图像形成装置还包括:第一检测处理部,所述第一检测处理部检测第一状态,所述第一状态是被容纳在安装于所述安装部的所述显影剂容纳部中的所述显影剂的剩余量小于预先规定的第一基准量的状态;第二检测处理部,所述第二检测处理部检测第二状态,所述第二状态是被容纳在安装于所述安装部的所述显影剂容纳部中的所述显影剂的剩余量为所述第一基准量以上且小于比所述第一基准量大的预先规定的第二基准量的状态;第一解除处理部,所述第一解除处理部在通过所述第一检测处理部检测出所述第一状态的情况下,使所述锁定机构解除所述显影剂容纳部的拆装限制;以及第二解除处理部,所述第二解除处理部在通过所述第二检测处理部检测出所述第二状态且预先规定的解除条件满足的情况下,使所述锁定机构解除所述显影剂容纳部的拆装限制。
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