[发明专利]石墨烯电极的制备方法及基板、显示器在审
| 申请号： | 201710265073.7 | 申请日： | 2017-04-21 |
| 公开（公告）号： | CN107422546A | 公开（公告）日： | 2017-12-01 |
| 发明（设计）人： | 陈兴武;李明辉 | 申请（专利权）人： | 深圳市华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1343 | 分类号： | G02F1/1343;G03F7/00 |
| 代理公司： | 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙)44280 | 代理人： | 钟子敏 |
| 地址： | 518006 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种石墨烯电极的制备方法及基板、显示器，所述方法包括在衬底基板上形成氧化石墨烯层；在氧化石墨烯层上涂布高分子涂层；对高分子涂层进行纳米压印，以形成图形化的高分子涂层；对氧化石墨烯层进行还原处理，未被图形化的高分子涂层覆盖的部分氧化石墨烯层被还原为石墨烯；剥离高分子涂层以得到图形化的石墨烯电极。通过上述方式，本发明能精确控制石墨烯电极的L/S达纳米级别，实现高透光性和强柔韧性的石墨烯电极。 | ||
| 搜索关键词： | 石墨 电极 制备 方法 显示器 | ||
【主权项】：
一种石墨烯电极的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括：在衬底基板上形成氧化石墨烯层；在所述氧化石墨烯层上涂布高分子涂层；对所述高分子涂层进行纳米压印，以形成图形化的高分子涂层；对所述氧化石墨烯层进行还原处理，未被所述图形化的高分子涂层覆盖的部分氧化石墨烯层被还原为石墨烯；剥离所述高分子涂层以得到图形化的石墨烯电极。
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