[发明专利]存储单元扭曲测量方法有效
申请号: | 201710261598.3 | 申请日: | 2017-04-20 |
公开(公告)号: | CN107084697B | 公开(公告)日: | 2019-06-28 |
发明(设计)人: | 刘磊;陆磊;周第廷 | 申请(专利权)人: | 武汉新芯集成电路制造有限公司 |
主分类号: | G01B21/20 | 分类号: | G01B21/20;G11C29/56 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 屈蘅;李时云 |
地址: | 430205 湖北*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | 本发明提供了一种存储单元扭曲测量方法,所述存储单元扭曲测量方法包括:确定所述存储单元的左边界和左基准线,和/或确定所述存储单元的右边界和右基准线;计算所述左边界与所述左基准线的方差,和/或计算所述右边界与所述右基准线的方差;其中,所述方差与所述存储单元的扭曲程度呈正比。本发明中的存储单元扭曲测量方法,通过得到的一个或多个方差值来度量存储单元扭曲程度的值,只使用普通的扫描装置和计算单元即可实现,克服了现有技术中手动测量的精度低、误差大、操作繁琐的问题。 | ||
搜索关键词: | 存储 单元 扭曲 测量方法 | ||
【主权项】:
1.一种存储单元扭曲测量方法,其特征在于,所述存储单元扭曲测量方法包括:确定所述存储单元的左边界和左基准线,和/或确定所述存储单元的右边界和右基准线;计算所述左边界与所述左基准线的方差,和/或计算所述右边界与所述右基准线的方差;其中,所述方差与所述存储单元的扭曲程度呈正比;所述确定所述存储单元的左基准线和/或右基准线包括:将垂直方向设置为所述左基准线和所述右基准线的方向;在所述左边界上选择多个左基准线采集点,并采集多个所述左基准线采集点在垂直方向上的坐标值,将所述左基准线采集点在垂直方向上的坐标值进行平均计算,获得第一平均值,将所述第一平均值作为所述左基准线在垂直方向上的坐标值;在所述右边界上选择多个右基准线采集点,并采集多个所述右基准线采集点在垂直方向上的坐标值,将所述右基准线采集点在垂直方向上的坐标值进行平均计算,获得第二平均值,将所述第二平均值作为所述右基准线在垂直方向上的坐标值;所述存储单元的数量为多个,多个所述存储单元设置在一存储器件中,所述存储器件包括上边界和下边界,或者所述存储单元的数量为单个,所述存储单元还包括上边界和下边界;将所述左基准线和/或所述右基准线延伸,直至与所述上边界和所述下边界相交。
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