[发明专利]真空计状态检测方法及系统

摘要

本发明的真空计状态检测方法及系统能够更正确地判断真空计的保养时期。状态判断部(123)将测量部(122)所获得的输出值与设为基准的基准特性值相比较，对输出值为基准特性值以上的过大压力施加状态的次数进行累计，并对次数达到所设定的上限值的情况进行判断。警报输出部(125)根据状态判断部(123)对输出值为基准特性值以上的次数达到所设定的上限值的情况的判断来输出警报。

主权项

1.一种真空计状态检测方法，其对真空计的膜片的状态进行检测，所述真空计由具备膜片的传感器芯片构成，并将所述膜片的位移作为静电容量的变化来检测，所述膜片被设为能位移并接受来自测定对象的压力，所述真空计状态检测方法的特征在于，包括：第1步骤，其获得所述真空计的输出值；第2步骤，其将所述第1步骤所获得的输出值与作为基准的基准特性值相比较；第3步骤，在所述第2步骤的比较中对所述输出值是否为所述基准特性值以上进行判断、且判断为所述输出值为所述基准特性值以上的过大压力施加状态的情况下，对所述过大压力施加状态的次数进行累计；以及第4步骤，其对所述第3步骤所获得的次数达到所设定的上限值的情况进行判断。