[发明专利]高孔隙率材料及其制造方法在审
申请号: | 201710218047.9 | 申请日: | 2017-04-05 |
公开(公告)号: | CN107448241A | 公开(公告)日: | 2017-12-08 |
发明(设计)人: | H.C.罗伯茨;M.F.X.小吉利奥蒂;R.W.小阿尔布雷奇特;E.A.埃斯蒂尔;P.A.弗林 | 申请(专利权)人: | 通用电气公司 |
主分类号: | F01D5/18 | 分类号: | F01D5/18;B22F3/11 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司72001 | 代理人: | 严志军,刘林华 |
地址: | 美国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明涉及高孔隙率材料及其制造方法。具体而言,本发明涉及包括具有范围在1%到30%之间的第一孔隙率的第一区域的陶瓷或金属构件。该构件包括具有小于第一孔隙率的第二孔隙率的第二区域。该构件包括第一区域和第二区域之间的至少一个分级过渡。 | ||
搜索关键词: | 孔隙率 材料 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种陶瓷或金属构件(300),包括:第一区域(315),其具有范围在1%到30%之间的第一孔隙率;和第二区域(320),其具有小于所述第一孔隙率的第二孔隙率,其中所述构件包括所述第一区域和第二区域之间的至少一个分级过渡(335)。
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