[发明专利]一种制备SiTiOC陶瓷涂层的方法

摘要

本发明公开了一种制备SiTiOC陶瓷涂层的方法，属于化学合成和陶瓷涂层制备技术领域。本发明方法包括以下步骤(1)钛酸丁酯与有机硅化合物进行化学反应，制备钛有机硅化合物；(2)将钛有机硅化合物涂覆在基体表面，固化；(3)利用连续激光对步骤(2)制得的固态钛有机硅涂层扫描，裂解涂层，获得SiTiOC陶瓷涂层。本发明方法简便易操作，制备周期短效率高，激光扫描对基体的形状和组织性能不会产生负面影响，制得的SiTiOC陶瓷涂层孔隙率较低，具有优异的防腐耐磨减摩性能，不易产生裂纹，适合规模化生产，在航空航天、国防、化工、机械、电力、电子等领域具有广阔的应用前景。

主权项

1.一种制备SiTiOC陶瓷涂层的方法，其特征在于，所述的方法包括以下步骤：(1)钛酸丁酯与有机硅化合物进行化学反应，制备钛有机硅化合物；所述有机硅化合物为γ‑缩水甘油氧丙基三甲氧基硅烷和/或γ‑氨丙基三乙基硅烷；(2)将钛有机硅化合物涂覆在基体表面，固化；(3)利用连续激光对步骤(2)制得的固态钛有机硅涂层扫描，裂解涂层，获得SiTiOC陶瓷涂层。