[发明专利]接近式曝光装置及其曝光方法有效
| 申请号： | 201710187193.X | 申请日： | 2017-03-23 |
| 公开（公告）号： | CN106773557B | 公开（公告）日： | 2019-08-30 |
| 发明（设计）人： | 蒋盛超;余世荣;孟庆勇 | 申请（专利权）人： | 合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 杨娟奕 |
| 地址： | 230012 安徽*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 公开了一种接近式曝光装置，包括：装载台；保持器，安装到所述装载台上，用于保持所述掩模板；真空罩，设置在所述掩模板的上方，用于在所述掩模板的上方形成密封空间；以及泵送机构，连接到所述真空罩，以从所述真空罩抽吸空气，用于在所述掩模板的上方形成负压状态。本公开的接近式曝光装置，通过泵送机构在真空罩中形成负压状态，抵消重力对掩模板的作用，防止掩模板由于重力作用而挠曲变形所导致的曝光精度下降。 | ||
| 搜索关键词： | 接近 曝光 装置 及其 方法 | ||
【主权项】：
1.一种接近式曝光装置，包括：装载台；保持器，安装到所述装载台上，用于保持掩模板；真空罩，设置在所述掩模板的上方，用于在所述掩模板的上方形成密封空间，所述真空罩固定在装载台上；以及泵送机构，连接到所述真空罩，以从所述真空罩抽吸空气，用于在所述掩模板的上方形成负压状态；所述接近式曝光装置还包括驱动机构，用于驱动所述保持器上下移动，从而调节保持器与装载台之间的距离。
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