[发明专利]接近式曝光装置及其曝光方法

说明书

技术领域

本公开的实施例涉及曝光技术领域，具体地涉及接近式曝光装置及其曝光方法，例如用于显示器件、微电子器件、半导体器件等的制作中。

背景技术

接近式曝光机是光刻工艺中常见的一种类型的曝光机。与投影式曝光机相比，接近式曝光机成本低，稼动率(activation)高，光刻效果可以满足大多种需求，在现代光刻工艺中应用最为广泛。

在接近式曝光机中，掩模板与涂覆有光刻胶的待曝光的玻璃基板以微小的间隙对置，间隙(Gap)尺寸例如为100um-400um，该间隙可以有效避免掩模板与待曝光基板直接接触而引起的掩模板和待曝光基板的损伤。在曝光时，曝光光线通过掩模板投射到待曝光基板上，以将掩模板的图案复制到基板上。

接近式曝光机中，掩模板与玻璃基板之间的曝光间隙直接影响复制到基板上的图案的尺寸及曝光精度。因此曝光间隙的均一性及准确度直接影响产品的品质。

发明内容

考虑到现有技术中的一个或多个问题，本公开的实施例旨在提供一种接近式曝光装置，以提高曝光精度。

本公开实施例的一方面提供了一种接近式曝光装置，包括装载台、保持器、真空罩以及泵送机构。所述保持器安装到所述装载台上，用于保持所述掩模板。所述真空罩设置在所述掩模板的上方，用于在所述掩模板的上方形成密封空间。所述泵送机构连接到所述真空罩，以从所述真空罩抽吸空气，用于在所述掩模板的上方形成负压状态。

根据本公开的一个示例性的实施例，所述真空罩还包括至少一个空气导入孔，所述至少一个空气导入孔用于向所述真空罩中引入外部空气。

根据本公开的一个示例性的实施例，所述空气导入孔上安装有调节阀门，所述调节阀门构造成调节通过所述空气导入孔流入的外部空气的流量。

根据本公开的一个示例性的实施例，所述真空罩固定在所述装载台上。

根据本公开的一个示例性的实施例，所述装载台的下方设置有密封结构，用于在装载台和掩模板之间形成密封状态。

根据本公开的一个示例性的实施例，所述接近式曝光装置还包括驱动机构，用于驱动所述保持器上下移动。

根据本公开的一个示例性的实施例，所述驱动机构为液压式驱动机构，包括活塞杆、气缸体和电液伺服阀。所述活塞杆连接至所述保持器，以驱动所述保持器上下移动。所述气缸体容纳所述活塞杆和液压油。所述电液伺服阀通过第一液压油管道和第二液压油管道连接到汽缸体，并通过控制液压油通过第一液压油管道和第二液压油管道进出汽缸体来控制所述活塞杆上下移动。

根据本公开的一个示例性的实施例，所述接近式曝光装置还包括控制单元，所述控制单元用于控制所述泵送机构的泵送操作。

根据本公开的一个示例性的实施例，所述接近式曝光装置还包括控制单元，所述控制单元用于控制所述驱动机构的操作。

根据本公开的一个示例性的实施例，所述接近式曝光装置还包括控制单元，所述控制单元用于控制所述调节阀门的开口度。

根据本公开的一个示例性的实施例，所述接近式曝光装置还包括负压测量装置，用于测量所述真空罩内的负压的大小，并将测量结果发送给控制单元。所述控制单元根据所述负压测量装置的测量结果控制所述泵送机构的泵送操作。

本公开的另一方面提供一种使用第一方面的接近式曝光装置的曝光方法，包括：将掩模板装载在保持器上，以与待曝光基板对置；利用泵送机构抽吸设置在所述掩模板的上方的真空罩中的空气，以在所述掩模板的上方形成负压状态；以及通过所述掩模板对待曝光基板照射光线，以对所述待曝光基板进行曝光。

根据本公开的一个示例性的实施例，将掩模板装载在保持器上包括：远离装载台移动所述保持器，以在所述保持器上方留出装载所述掩模板的空间；利用所述空间将所述掩模板放置在曝光位置或装载在保持器上；以及朝向所述装载台移动所述保持器至曝光位置。

根据本公开的一个示例性的实施例，所述的接近式曝光装置的曝光方法，还包括：在曝光完成后从所述保持器卸载所述掩模板，所述卸载包括：对真空罩下方的密封空间去真空；远离装载台移动所述保持器，以在所述保持器上方留出卸载掩模板的空间；以及利用所述空间从所述保持器卸载所述掩模板。

根据本公开的一个示例性的实施例，所述的接近式曝光装置的曝光方法，还包括：在曝光的过程中，测量所述真空罩中的负压的大小，并根据测量结果调节所述真空罩中的负压至目标压力。

为了使本公开的目的、特征及优点能更加明显易懂，下面结合附图和具体实施例对本公开作进一步说明。

附图说明