[发明专利]一种直写曝光光路系统及其一次性直写曝光方法

摘要

本发明公开了一种直写曝光光路系统及其一次性直写曝光方法，属于直写曝光机技术领域。本发明的光路系统包括多排DMD组件，每排上的曝光组件成直线排列，相邻两排曝光组件交错分布，每个曝光组件都对应在相邻排两个曝光组件的中间位置；所述的直写曝光光路系统和一次性直写曝光方法可以避免Y轴往复运动带来的误差，图形不变形，确保图形拼接精确，无需步进方向的X轴，大大减小设备尺寸，减轻设备重量，适应绝大多数PCB生产商的场地要求，Y轴不需要进行往复运动，省去绝大多数加减速时间，提高工作效率。

主权项

1.一种直写曝光光路系统，所述光路系统包括多排DMD组件，每排上有多个DMD组件且这多个DMD组件成直线排列；相邻两排DMD组件交错分布，每个DMD组件在扫描方向上都对应在相邻排两个DMD组件之间的位置；每排上相邻两个DMD组件之间在扫描方向上不能被覆盖的空白区域，在其它各排依次对应有DMD组件；各DMD组件覆盖整个曝光区域；所述DMD组件连接在DMD支架上，所述DMD支架有多个，其形状为直线型，所述每1排DMD组件连接在1个DMD支架上；DMD支架通过连接杆相互连接，连接杆与支架通过螺栓固定；所述多排DMD组件在扫描方向上覆盖的整个条带宽度不小于其所对应的直写曝光设备的吸盘的宽度。