[发明专利]直写式光刻机曝光对准装置及方法在审

专利信息
申请号: 201710132088.6 申请日: 2017-03-07
公开(公告)号: CN106773566A 公开(公告)日: 2017-05-31
发明(设计)人: 李显杰 申请(专利权)人: 无锡影速半导体科技有限公司
主分类号: G03F9/00 分类号: G03F9/00;G03F7/20
代理公司: 无锡市大为专利商标事务所(普通合伙)32104 代理人: 殷红梅
地址: 214135 江苏省无锡市新吴区太湖*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明涉及一种对准装置及方法,尤其是一种直写式光刻机曝光对准装置及方法,具体地说是并置式双台面曝光对准方法,属于直写式光刻机的技术领域。按照本发明提供的技术方案,所述直写式光刻机曝光对准装置,包括呈并置式分布的第一台面以及第二台面;在所述第一台面、第二台面的上方设置对准图像抓取机构,所述对准图像抓取机构包括导轨以及设置于导轨上的第一对准相机与第二对准相机,第一对准相机、第二对准相机能在所述导轨上进行所需的运动,并在运动到所需的位置后,能抓取第一台面、第二台面上相应靶标的图像。本发明结构紧凑,对准方便,提升曝光效率,安全可靠。
搜索关键词: 直写式 光刻 曝光 对准 装置 方法
【主权项】:
一种直写式光刻机曝光对准装置,包括呈并置式分布的第一台面(4)以及第二台面(5);其特征是:在所述第一台面(4)、第二台面(5)的上方设置对准图像抓取机构,所述对准图像抓取机构包括导轨(1)以及设置于导轨(1)上的第一对准相机(2)与第二对准相机(3),第一对准相机(2)、第二对准相机(3)能在所述导轨(1)上进行所需的运动,并在运动到所需的位置后,能抓取第一台面(4)、第二台面(5)上相应靶标(6)的图像。
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