[发明专利]激光蚀刻设备及使用激光蚀刻设备进行激光蚀刻的方法有效
申请号: | 201710128531.2 | 申请日: | 2017-03-06 |
公开(公告)号: | CN107303628B | 公开(公告)日: | 2022-01-07 |
发明(设计)人: | 李东勋 | 申请(专利权)人: | 三星显示有限公司 |
主分类号: | B23K26/362 | 分类号: | B23K26/362;B23K26/70 |
代理公司: | 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 | 代理人: | 刘灿强;董婷 |
地址: | 韩国京畿*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 提供了激光蚀刻设备及使用激光蚀刻设备进行激光蚀刻的方法。所述激光蚀刻设备包括腔室、激光端口、激光发射器、颗粒捕捉器和旋转窗口模块。腔室被构造为容纳基底。激光端口在向下的方向上设置在腔室下面。激光发射器被构造为将激光通过激光端口发射到设置在腔室之内的基底。颗粒捕捉器设置在腔室之内并且包括设置在激光端口上方的主体。开口形成为穿过主体。开口被构造为使激光经由该开口穿过。旋转窗口模块包括旋转窗口和被构造为驱动旋转窗口的驱动部。旋转窗口设置在颗粒捕捉器与激光端口之间。 | ||
搜索关键词: | 激光 蚀刻 设备 使用 进行 方法 | ||
【主权项】:
一种激光蚀刻设备,所述激光蚀刻设备包括:腔室,被构造为容纳基底;激光端口,在向下的方向上设置在所述腔室下面;激光发射器,被构造为将激光通过所述激光端口发射至设置在所述腔室之内的所述基底;颗粒捕捉器,设置在所述腔室之内,所述颗粒捕捉器包括设置在所述激光端口上方的主体,其中,开口形成为穿过所述主体并且所述开口被构造为使所述激光经由该开口穿过;以及旋转窗口模块,包括旋转窗口和被构造为驱动所述旋转窗口的驱动部,其中,所述旋转窗口设置在所述颗粒捕捉器与所述激光端口之间。
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