[发明专利]激光蚀刻设备及使用激光蚀刻设备进行激光蚀刻的方法有效

专利信息
申请号: 201710128531.2 申请日: 2017-03-06
公开(公告)号: CN107303628B 公开(公告)日: 2022-01-07
发明(设计)人: 李东勋 申请(专利权)人: 三星显示有限公司
主分类号: B23K26/362 分类号: B23K26/362;B23K26/70
代理公司: 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 代理人: 刘灿强;董婷
地址: 韩国京畿*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 激光 蚀刻 设备 使用 进行 方法
【说明书】:

提供了激光蚀刻设备及使用激光蚀刻设备进行激光蚀刻的方法。所述激光蚀刻设备包括腔室、激光端口、激光发射器、颗粒捕捉器和旋转窗口模块。腔室被构造为容纳基底。激光端口在向下的方向上设置在腔室下面。激光发射器被构造为将激光通过激光端口发射到设置在腔室之内的基底。颗粒捕捉器设置在腔室之内并且包括设置在激光端口上方的主体。开口形成为穿过主体。开口被构造为使激光经由该开口穿过。旋转窗口模块包括旋转窗口和被构造为驱动旋转窗口的驱动部。旋转窗口设置在颗粒捕捉器与激光端口之间。

技术领域

发明构思的示例性实施例涉及一种激光蚀刻设备,更具体地,涉及一种激光蚀刻设备及使用激光蚀刻设备进行激光蚀刻的方法。

背景技术

最近,已经生产出重量轻且小的显示设备。传统上已经使用阴极射线管(CRT)显示设备。然而,CRT显示设备具有大的尺寸和沉的重量,因此无法很好地适用于便携式装置中。因此,已经开发了更小且更轻的显示装置。小且轻的显示装置的示例包括等离子体显示设备、液晶显示设备和有机发光显示设备。

有机发光显示设备包括响应速度快、功耗低于传统液晶显示器(LCD)、重量轻、不需要背光组件以及亮度高的特性。

有机发光显示设备包括有机发光元件,该有机发光元件具有设置在基底上的特定图案。可以通过在基底上形成有机膜并对有机膜进行图案化来形成图案。可替代地,可以通过使用掩模在基底上形成有机图案来形成图案。可以通过激光蚀刻设备对有机膜进行图案化。激光蚀刻设备会需要用于维护和管理的大量的时间和努力。因此,会降低工艺的生产率。

发明内容

本发明的示例性实施例提供了激光蚀刻设备。所述激光蚀刻设备包括腔室、激光端口、激光发射器、颗粒捕捉器和旋转窗口模块。腔室被构造为容纳基底。激光端口在向下的方向上设置在腔室下面。激光发射器被构造为将激光通过激光端口发射至设置在腔室之内的基底。颗粒捕捉器设置在腔室之内。颗粒捕捉器包括设置在激光端口上方的主体。开口形成为穿过主体。开口被构造为使激光经由该开口穿过。旋转窗口模块包括旋转窗口。旋转窗口模块还包括被构造为驱动旋转窗口的驱动部。驱动窗口设置在颗粒捕捉器与激光端口之间。

根据本发明的示例性实施例,旋转窗口可以具有圆形形状。旋转窗口也可以对于对预定数量的基底执行的每个激光蚀刻工艺以预定角度旋转。

根据本发明的示例性实施例,驱动部可以包括电动机。电动机可以被构造为使旋转窗口旋转。驱动部还可以包括大气压力空间。大气压力空间可以从腔室分离出来。大气压力空间可以包括大气压力。电动机可以设置在大气压力空间之内。

根据本发明的示例性实施例,颗粒捕捉器还可以包括狭缝遮板。狭缝遮板可以设置在颗粒捕捉器之内。狭缝遮板可以限定狭缝。狭缝可以在第一方向上延伸。狭缝在基本垂直于第一方向的第二方向上可以具有宽度。狭缝也可以与主体的开口叠置。

根据本发明的示例性实施例,颗粒捕捉器还可以包括静电发生器。静电发生器可以设置在主体之内。

根据本发明的示例性实施例,静电发生器可以包括两个表面。所述两个表面可以彼此面对。主体的开口可以设置在所述两个表面之间。

根据本发明的示例性实施例,激光蚀刻设备还可以包括氮气发生器。激光蚀刻设备也可以包括吸气器。氮气发生器和吸气器可以设置在静电发生器的下面。氮气发生器可以被构造为在颗粒捕捉器的下部处产生氮气。吸气器可以被构造为吸取氮气。

根据本发明的示例性实施例,旋转窗口的旋转轴可以不与狭缝叠置。

根据本发明的示例性实施例,旋转轴可以在第一方向上与狭缝分隔开。

根据本发明的示例性实施例,旋转窗口可以以预定角度旋转。

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