[发明专利]量子点薄膜及其制造方法在审
申请号: | 201710123637.3 | 申请日: | 2017-03-03 |
公开(公告)号: | CN107817539A | 公开(公告)日: | 2018-03-20 |
发明(设计)人: | 唐世杰;吕英宗;吴宪宗;李宛珊 | 申请(专利权)人: | 迎辉科技股份有限公司;原像科技有限公司 |
主分类号: | G02B1/14 | 分类号: | G02B1/14;G02F1/13357 |
代理公司: | 北京泰吉知识产权代理有限公司11355 | 代理人: | 史瞳,谢琼慧 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: | 一种量子点薄膜及其制造方法,该量子点薄膜包含一个基材、一个阻水层,及一个作用层。该阻水层具有阻隔水气的功能,该阻水层位于该基材上,并且由有机材料与无机材料混合形成。该作用层位于该阻水层上方,并包括一个主体,以及数个掺混于该主体中的量子点。通过该阻水层同时包含有机材料与无机材料,其中无机材料具有良好的阻水气效果,避免作用层受到水气影响,有机材料具有较佳的可挠性,而且能提升该阻水层与该基材及该作用层间的结合稳固性。本发明能有效降低薄膜整体厚度,阻水气效果佳。 | ||
搜索关键词: | 量子 薄膜 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种量子点薄膜,包含:一个基材,其特征在于,该量子点薄膜还包含一个位于该基材上的阻水层,以及一个位于该阻水层上方的作用层,该阻水层具有阻隔水气的功能,并且由有机材料与无机材料混合形成,该作用层包括一个主体,以及数个掺混于该主体中的量子点。
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