[发明专利]量子点薄膜及其制造方法在审
| 申请号： | 201710123637.3 | 申请日： | 2017-03-03 |
| 公开（公告）号： | CN107817539A | 公开（公告）日： | 2018-03-20 |
| 发明（设计）人： | 唐世杰;吕英宗;吴宪宗;李宛珊 | 申请（专利权）人： | 迎辉科技股份有限公司;原像科技有限公司 |
| 主分类号： | G02B1/14 | 分类号： | G02B1/14;G02F1/13357 |
| 代理公司： | 北京泰吉知识产权代理有限公司11355 | 代理人： | 史瞳,谢琼慧 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 台湾;71 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 量子 薄膜 及其 制造 方法 | ||
1.一种量子点薄膜，包含：一个基材，其特征在于，该量子点薄膜还包含一个位于该基材上的阻水层，以及一个位于该阻水层上方的作用层，该阻水层具有阻隔水气的功能，并且由有机材料与无机材料混合形成，该作用层包括一个主体，以及数个掺混于该主体中的量子点。
2.如权利要求1所述的量子点薄膜，其特征在于：该阻水层的有机材料为六甲基二硅氧烷，该无机材料为金属氮化物、金属氧化物或金属氮氧化物。
3.如权利要求1所述的量子点薄膜，其特征在于：该基材材料为聚乙烯对苯二甲酸酯。
4.如权利要求1至3中任一权利要求所述的量子点薄膜，其特征在于：该阻水层的厚度为5nm～200nm。
5.如权利要求1所述的量子点薄膜，其特征在于：该量子点薄膜还包含一层位于该阻水层与该作用层间的结合层，该结合层为有机材料。
6.一种量子点薄膜的制造方法，包含：提供一个基材，其特征在于，该量子点薄膜的制造方法还包含：将有机材料与无机材料混合在一起，并利用溅镀方式披覆形成于该基材上，以在该基材上形成一个阻水层，后续形成一个具有数个量子点的作用层。
7.如权利要求6所述的量子点薄膜的制造方法，其特征在于：该阻水层的有机材料为六甲基二硅氧烷，该无机材料为金属氮化物、金属氧化物或金属氮氧化物。
8.如权利要求6所述的量子点薄膜的制造方法，其特征在于：该基材材料为聚乙烯对苯二甲酸酯。
9.如权利要求6至8中任一项所述的量子点薄膜的制造方法，其特征在于：该阻水层的厚度为5nm～200nm。
10.如权利要求6所述的量子点薄膜的制造方法，其特征在于：在形成该作用层前，先在该阻水层上形成一层结合层，该结合层为有机材料。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于迎辉科技股份有限公司;原像科技有限公司，未经迎辉科技股份有限公司;原像科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201710123637.3/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
