[发明专利]一种抛光工艺

摘要

本发明公开了一种抛光工艺，适用于抛光粉末冶金制品。本发明采用离心研磨抛光设备、涡流研磨抛光设备、核桃壳研磨抛光设备、等离子抛光机等核心设备，并配合使用陶瓷圆球石、高频陶瓷长条石、核桃壳颗粒等研磨材料和等离子抛光机所使用的硫酸铵溶液，以将粉末冶金制品进行抛光。本发明利用设备组合使用的加工方式替代传统的手工抛光工艺，这样的抛光工艺大幅地减少了人工，能够提高加工效率，降低加工成本，还能避免加工过程中所产生的碎屑飞扬而危害人的健康。

主权项

一种抛光工艺，其特征在于，包括以下步骤：（1）在涡流研磨抛光设备中加入研磨石和待抛光件，对待抛光件进行第一次密封抛光5～8小时；（2）将第一次密封抛光后的待抛光件放入离心研磨抛光设备中，加入长度为7mm～10mm的高频陶瓷长条石，对待抛光件进行第二次密封抛光3.5～5小时；（3）将第二次密封抛光后的待抛光件进行清洗，并将卡于待抛光件中的块状固体物挑出；（4）将挑选后的待抛光件进行第三次抛光加工；（5）将第三次抛光后的待抛光件加入到等离子抛光机中，并在等离子抛光机中加入重量百分比浓度为2%～3%的硫酸铵溶液直至待抛光件被淹没，对待抛光件进行第四次密封抛光4～10分钟。