[发明专利]光掩模的制造方法、光掩模和显示装置的制造方法

摘要

提供光掩模的制造方法、光掩模和显示装置的制造方法，一种光掩模的制造方法，其具备包含透光部、第1透过控制部和第2透过控制部的转印用图案，该方法包括下述工序准备形成有第1光学膜和第1抗蚀剂膜的光掩模坯后，对第1抗蚀剂膜进行第1绘图，形成第1抗蚀剂图案；使用第1抗蚀剂图案仅对第1光学膜蚀刻，形成第1光学膜图案；在透明基板上形成第2光学膜后，在第2光学膜上形成第2抗蚀剂膜并进行第2绘图，形成第2抗蚀剂图案；和使用第2抗蚀剂图案仅对第2光学膜蚀刻，形成第2光学膜图案；第2抗蚀剂图案具有下述尺寸在覆盖第2透过控制部的形成区域的同时，在第2透过控制部的边缘在相邻的第1透过控制部侧加上了特定宽度的裕量。

主权项

一种显示装置制造用光掩模的制造方法，其特征在于，该显示装置制造用光掩模具备在透明基板上第1光学膜和第2光学膜分别被图案化而形成的转印用图案；所述转印用图案包含：所述透明基板的表面露出的透光部、具有与所述透光部相邻的部分的第1透过控制部、和具有与所述第1透过控制部相邻的部分的第2透过控制部；在所述第1透过控制部具有形成于所述透明基板上的所述第1光学膜，在所述第2透过控制部具有形成于所述透明基板上的所述第2光学膜，该制造方法包括下述工序：准备在所述透明基板上形成有所述第1光学膜和第1抗蚀剂膜的光掩模坯的工序；对所述第1抗蚀剂膜进行第1绘图而形成第1抗蚀剂图案的第1抗蚀剂图案形成工序；将所述第1抗蚀剂图案作为掩模，对所述第1光学膜进行蚀刻而形成第1光学膜图案的第1图案化工序；在包含所述第1光学膜图案的所述透明基板上形成所述第2光学膜的工序；在所述第2光学膜上形成第2抗蚀剂膜并进行第2绘图，形成第2抗蚀剂图案的第2抗蚀剂图案形成工序；和将所述第2抗蚀剂图案作为掩模，对所述第2光学膜进行蚀刻而形成第2光学膜图案的第2图案化工序，在所述第1图案化工序中，仅对所述第1光学膜进行蚀刻，在所述第2图案化工序中，仅对所述第2光学膜进行蚀刻，并且，所述第2抗蚀剂图案具有下述尺寸：覆盖所述第2透过控制部的形成区域，并且在所述第2透过控制部的边缘在相邻的所述第1透过控制部侧加上了特定宽度的裕量。