[发明专利]一种镁合金无铬转化膜均匀化的前处理方法有效
申请号: | 201710093762.4 | 申请日: | 2017-02-21 |
公开(公告)号: | CN108456884B | 公开(公告)日: | 2019-10-22 |
发明(设计)人: | 董凯辉;宋影伟;单大勇;韩恩厚 | 申请(专利权)人: | 中国科学院金属研究所 |
主分类号: | C23C28/04 | 分类号: | C23C28/04;C23C22/60;C23C22/42;C23G1/12 |
代理公司: | 沈阳优普达知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 21234 | 代理人: | 张志伟 |
地址: | 110016 辽*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明涉及镁合金表面处理领域,具体地说是一种镁合金无铬转化膜均匀化的前处理方法。该前处理主要包括前置处理,均匀化处理以及均匀化后处理三步。前置处理可以去除基体表面存在的油脂和污物,并在镁合金α基体相上形成一层薄的保护膜;均匀化处理工序可以使基体表面存在较大尺寸的第二相优先发生溶解,随后的均匀化后处理过程可以去除表面残留的盐类晶粒和氧化皮,并起到一定活化的作用。经过本发明方法处理后的样品在转化膜溶液中基体表面形核更均匀,晶粒分布更紧密,提高膜层整体的耐腐蚀性能,解决了镁合金表面由于第二相的影响导致其初期成膜不均匀的问题。 | ||
搜索关键词: | 均匀化 镁合金 前处理 镁合金表面 无铬转化膜 后处理 基体表面 前置处理 第二相 去除 均匀化处理工序 均匀化处理 耐腐蚀性能 晶粒 表面残留 晶粒分布 保护膜 不均匀 基体相 氧化皮 转化膜 成膜 活化 面形 膜层 溶解 | ||
【主权项】:
1.一种镁合金无铬转化膜均匀化的前处理方法,其特征在于,溶解镁合金表面存在的尺寸较大的第二相,获得化学成分和微观结构均匀的表面,有利于后续转化膜的均匀形核和生长,提高转化膜的耐蚀性,具体步骤如下:(1)前置处理:将镁合金浸泡在碱性溶液中,控制其温度为30~90 ℃,浸泡时间为2~20 min,去除表面残留的油脂和污物,并在镁合金α基体相上形成一层薄的保护膜;(2)均匀化处理:经前置处理后的镁合金浸泡在均匀化处理液中,常温操作,浸泡时间为30 s~5 min,溶解基体表面存在的尺寸较大的第二相;均匀化处理液由20~120 g/l铵盐、2~30 g/l硅酸盐中的一种或其复配,并含有10~120 mg/l缓蚀剂,余量为水,pH值3~6;(3)均匀化后处理:经均匀化处理后的镁合金浸泡在酸性溶液中,常温操作,处理时间为10 s~2 min,去除表面残留的盐类晶粒及较薄的氧化皮,并对样品表面起到活化作用;(4)前处理后的镁合金放在无铬转化膜溶液中进行成膜处理。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院金属研究所,未经中国科学院金属研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201710093762.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类