[发明专利]一种介质窗和等离子体处理装置有效
| 申请号： | 201710092908.3 | 申请日： | 2017-02-21 |
| 公开（公告）号： | CN108461372B | 公开（公告）日： | 2020-03-31 |
| 发明（设计）人： | 张彦召;陈鹏;刘建生;徐奎;常大磊;佘清 | 申请（专利权）人： | 北京北方华创微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01L21/67 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 彭瑞欣;刘悦晗 |
| 地址： | 100176 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种介质窗和等离子体处理装置，在介质窗本体的内侧壁上形成具有缝隙的第一导电层，使得第一导电层为非闭合结构，从而起到法拉第屏蔽装置的作用；第一导电层可以直接形成在介质窗本体的内壁上，无需额外再设置法拉第屏蔽结构，使用方便，简化等离子体处理装置的结构，降低生产成本。而且，介质窗外部的射频能量也可以馈入腔体内部，以产生高密度的等离子体，第一导电层通过该缝隙始终保持开路，能够维持放电的稳定性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 介质 等离子体 处理 装置 | ||
【主权项】：
1.一种介质窗，包括介质窗本体，其特征在于，还包括形成于所述介质窗本体的内侧壁上的第一导电层，所述第一导电层具有缝隙。
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