[发明专利]曝光装置在审
| 申请号： | 201710046251.7 | 申请日： | 2017-01-22 |
| 公开（公告）号： | CN107015442A | 公开（公告）日： | 2017-08-04 |
| 发明（设计）人： | 关家一马 | 申请（专利权）人： | 株式会社迪思科 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司11127 | 代理人： | 李辉,于靖帅 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 提供一种曝光装置，使曝光装置低成本。该曝光装置包含光源(3)、照明光学系统(4)、掩模以及投影光学系统(5)，掩模构成为形成有多个小掩模(60A～60D)，该小掩模(60A～60D)由将构成1个器件的图案分割成多个区域而得的小图案构成。投影光学系统(5)由与小掩模(60A～60D)对应的大小构成，小图案被缩小投影在基板上。不需要由要求像差的精度的、价格高昂的透镜构成的投影光学系统，能够使用由投影面积小的像差的影响少的小型的透镜构成的投影光学系统，能够低成本地提供曝光装置。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 装置 | ||
【主权项】：
一种曝光装置，其中，该曝光装置具有光源、照明光学系统、掩模以及投影光学系统，该掩模构成为形成有多个小掩模，该小掩模由将构成1个器件的图案分割成多个区域而得的小图案构成，该投影光学系统由与该小掩模对应的大小构成，该小图案被缩小投影在基板上。
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