[发明专利]光电检测器件和光电检测装置有效
申请号: | 201710002778.X | 申请日: | 2017-01-03 |
公开(公告)号: | CN106783904B | 公开(公告)日: | 2019-07-05 |
发明(设计)人: | 马占洁 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | H01L27/146 | 分类号: | H01L27/146 |
代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人: | 姜春咸;陈源 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明提供一种光电检测器件,包括基板、设置在所述基板上的反射结构和设置在所述反射结构上的光电转换层,所述光电检测器件被划分为多个像素区和位于每相邻两个像素区之间的间隔区,所述光电转换层包括位于所述像素区的像素转换部和位于所述间隔区的间隔转换部;反射结构包括位于所述像素区的像素反射部和位于所述间隔区的间隔反射部,所述间隔反射部用于将从所述像素转换部射向所述间隔反射部的光线反射回所述像素转换部。相应地,本发明还提供一种光电检测装置。本发明能够减少光电检测时不同像素区之间的信号干扰。 | ||
搜索关键词: | 光电 检测 器件 装置 | ||
【主权项】:
1.一种光电检测器件,包括基板、设置在所述基板上的反射结构和设置在所述反射结构上的光电转换层,所述光电转换层位于所述反射结构背离所述基板的一侧,所述光电检测器件被划分为多个像素区和位于每相邻两个像素区之间的间隔区,所述光电转换层包括位于所述像素区的像素转换部;其特征在于,所述反射结构包括位于所述像素区的像素反射部和位于所述间隔区的间隔反射部,所述间隔反射部用于将从所述像素转换部射向所述间隔反射部的光线反射回所述像素转换部;所述间隔反射部的反射面包括第一反射面和第二反射面,所述第一反射面和所述第二反射面分别与位于所述间隔反射部两侧的像素反射部的反射面对应相连;所述像素反射部的反射面平行于所述基板的表面;所述第一反射面和所述第二反射面均为倾斜于所述像素反射部的反射面的斜面;所述第一反射面和第二反射面与各自相邻的所述像素反射部的反射面之间的角度均为钝角。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
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