[发明专利]有机层组成物及图案形成方法有效
| 申请号： | 201680087729.4 | 申请日： | 2016-10-18 |
| 公开（公告）号： | CN109478015B | 公开（公告）日： | 2022-04-12 |
| 发明（设计）人： | 南沇希;姜善惠;金瑆焕;郑瑟基;金旼秀;文秀贤 | 申请（专利权）人： | 三星SDI株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004;H01L21/033;H01L21/027;H01L21/324;H01L21/02;C08L65/00 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人： | 彭雪瑞;臧建明 |
| 地址： | 韩国京畿道龙仁市器兴区贡税*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明揭示一种有机层组成物及使用有机层组成物的图案形成方法，有机层组成物包含：聚合物，包含由化学式1表示的结构单元；添加剂，在作为含芳族环化合物的结构中包含经取代或未经取代的胺基、经取代或未经取代的乙烯基、经取代或未经取代的乙炔基、叠氮基及腈基中的至少一者；以及溶剂。化学式1与在说明书中所定义的相同。本发明因包含预定聚合物及预定添加剂而在以旋涂方法进行涂布的同时具有提高的耐蚀刻性的有机层组成物。由有机层组成物制造的有机层具有提高的膜密度及膜平坦度。 | ||
| 搜索关键词： | 有机 组成 图案 形成 方法 | ||
【主权项】：
1.一种有机层组成物，包含：聚合物，包含由化学式1表示的结构单元；添加剂，在作为含芳族环化合物的结构中包含经取代或未经取代的胺基、经取代或未经取代的乙烯基、经取代或未经取代的乙炔基、叠氮基或腈基中的至少一者；以及溶剂：[化学式1]![]()
其中，在化学式1中，A为经取代或未经取代的含芳族环的基、经取代或未经取代的含杂芳族环的基或其组合，B为二价有机基，且A及B中的至少一者经包含由化学式2表示的部分的官能基取代：[化学式2]![]()
其中，在化学式2中，Z为氢、羟基、经取代或未经取代的C1至C10烷基或经取代或未经取代的C6至C30芳基，且*为连接点。
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