[发明专利]绝缘结构制造方法、绝缘结构及旋转电机在审

专利信息
申请号: 201680084465.7 申请日: 2016-07-01
公开(公告)号: CN109075642A 公开(公告)日: 2018-12-21
发明(设计)人: 武良光太郎;菊田晋介;津田敏宏;吉满哲夫 申请(专利权)人: 东芝三菱电机产业系统株式会社
主分类号: H02K3/30 分类号: H02K3/30;H01B13/00;H02K15/12
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 白丽
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种将绝缘对象物的外表面覆盖的绝缘结构的制造方法,其具有以下步骤:制造混在有纳米粒子的主绝缘带的带制造步骤(S10);通过主绝缘带在绝缘对象物的外侧进行绕带来形成绝缘部的绕带步骤(S21);在绕带步骤后,将绕带后的绝缘对象物进行抽真空的抽真空步骤(S23);和在抽真空步骤后,在绝缘部中压入含浸用高分子聚合物并使其含浸的含浸步骤(S24)。
搜索关键词: 绝缘对象 绝缘结构 抽真空 含浸 绕带 绝缘部 主绝缘 制造 高分子聚合物 纳米粒子 旋转电机 中压 覆盖
【主权项】:
1.一种绝缘结构制造方法,其特征在于,其是将绝缘对象物的外表面覆盖的绝缘结构的制造方法,其具有:使用混在有纳米粒子的掺有纳米粒子的接合用高分子聚合物来制造主绝缘带的带制造步骤;通过所述主绝缘带在所述绝缘对象物的外侧进行绕带而形成主绝缘部的绕带步骤;在所述绕带步骤后,将绕带后的所述绝缘对象物进行抽真空的抽真空步骤;和在所述抽真空步骤之后,在所述主绝缘部中压入含浸用高分子聚合物并使其含浸的含浸步骤。
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